“5nm翻車”也算是近期的一個熱門話題了，似乎去年下半年發布的，包括驍龍888、麒麟9000、蘋果A14等在內的一眾應用了5nm工藝的手機芯片，都在功耗和發熱表現上不夠理想。
驍龍888（小米11）跑個Geekbench 5，單CPU功耗就達到了7.8W，堪稱驍龍近代能耗比最差，Adreno GPU性能首次遜于隔壁Mali;而麒麟9000（華為Mate40 Pro）雖說GPU性能上去了，但在光明山脈測試中，跑出了11W的峰值功耗；這都是向著PC功耗看齊的節奏了。很多媒體也因此將5nm冠以“集體翻車”的名號。
高通驍龍888、三星Exynos 2100選擇三星5nm，而海思麒麟9000、蘋果A14選擇了臺積電5nm。事實上，即便都叫5nm，臺積電和三星的5nm工藝也差異甚遠——所以“集體翻車”這種說法首先就值得商榷。這兩者甚至不該直接比較。本文我們根據Wikichip、Semiwiki、Semiconductor Digest等機構所做的研究，嘗試談談兩家5nm工藝的一些基本差異。
雖說從微觀層面，比如材料、晶體管性能等無法直接比較；而且臺積電甚至沒有公開5nm工藝晶體管的關鍵尺寸（暫時也沒有5nm工藝的相關“拆解”）。本文僅嘗試給出兩者大方向上的差異。
雖說主流芯片功耗爆表是否真的與臺積電、三星的5nm工藝有關，個人持保留意見。但通過這篇文章，我們也能更好地理解，如今的尖端工藝發展成了什么樣。
到底晶體管的哪個部分是5nm?
在探討兩種5nm工藝差異前，首先仍需明確一個概念。即現在的“幾nm”工藝這樣的稱謂，頂多就是個營銷概念。不管是7nm還是5nm，晶體管或者芯片微觀層面，都不存在哪個幾何參數是7nm或5nm。如此一來，5nm也就名副其實地成為了一個虛指，它僅能用于表達一個工藝節點，“5”不存在實際意義。
早在1997年以前，幾點幾微米或幾百納米工藝，的確是指晶體管上gate（柵或閘）的長度（Lg）。比如0.35μm，350nm，確實就是指gate長度為350nm。在350nm制造工藝以前的時代，工藝數字步進以0.7倍為節奏，比如350nm x0.7，下一代工藝就該是250nm了。
FinFET結構晶體管
不過到了奔騰3時期的250nm工藝，實則已經不再真正指代晶體管gate長度。250nm節點的gate長度已經來到了190nm，但晶體管的其他部分卻無法以對等的比例來同步縮減。從這一時期開始，工藝節點的這一數字便不再具有太大的實際意義。2012年22nm節點問世時，隨之而來的FinFET晶體管結構。這種3D結構要用一個數字來衡量晶體管尺寸也更難了。
在20nm以后，越來越多的節點數字也拋棄了0.7倍步進的傳統。14nm、7nm、5nm雖然仍遵循0.7倍步進傳統，但12nm、8nm、6nm、4nm等則顯然更具營銷意味了。自不必說，這些數字本身，除了表達工藝迭代之外，便再無更多意義。
若一定要說在晶體管上，與如今這個節點數字還有所關聯的部分，那大概就是fin寬度了，上面這張圖是Intel的14nm與10nm兩代工藝，晶體管各關鍵參數的變化，其中fin寬度大致與節點數字是一個量級。
臺積電5nm與三星5nm的本質差異
我在去年《同樣是臺積電7nm，蘋果和華為的7nm其實不一樣》一文中曾大致總結過，臺積電與三星7nm可認為是同代工藝，從Wikichip預估的數字來看，這兩者的晶體管密度（高密度庫）應該也差不了多少。
但這兩家fab的工藝路線方向卻已經發生了較大差異。在7nm時代，三星foundry以更激進的姿態，率先在多個疊層采用了EUV（極紫外）光刻。臺積電的7nm路線圖中，至少N7與N7P工藝仍然沒有采用EUV，直到N7+才用上了4層EUV光刻層。
臺積電N7+工藝的情況比較特別。市面上選擇了N7+的芯片似乎很少——知名的大概也就是Kirin 990 5G版了（Kirin 990 4G版用的是N7工藝）。而且N7+與N7/N7P并不兼容。
臺積電N7后續的完整迭代自然就是N5了——節點數字也符合0.7倍步進的節奏。所以對臺積電而言，5nm的確就是7nm的迭代工藝。
但三星這邊可不一樣。三星近些年的路線演進，開始走完整迭代時的大步子。比如在三星眼中，10nm到7nm屬于節點的完整迭代，所以7LPP就相對激進地用上了EUV。在7LPP往后，三星foundry路線圖的完整迭代，下一代工藝應該是3nm（3GAA）。且7nm->3nm的工藝迭代，邁的大步在于晶體管結構從FinFET，演進至GAAFET（Gate-All-Around FET）或/和MBCFET，也就是傳說中的納米線和納米片。
而5nm在三星眼中實則屬于1/4代工藝，或者說5LPE屬于7LPP工藝的同代加強，是向3nm工藝的過渡。三星的7nm與5nm的關系，更類似于其10nm與8nm的關系，如上圖所示。三星7LPP工藝同代加強，還包括了6nm、5nm、4nm。
如此一來，臺積電和三星（以及Intel）未來的工藝迭代可能要進一步發生分歧。比如臺積電預期中的3nm，至少前期并不打算采用GAA結構。當然，3nm就屬于題外話了，而且雖然三星的3GAA工藝PDK前年就進入了Alpha階段，但其量產至少也要等到明年。
這種迭代節奏上的差異（以及雙方7nm的起點差不多），導致了臺積電在5nm節點上跨的步子，會明顯比三星更大，或者說更先進。至于后續3nm如何，尚不得而知。所以N5與5LPE理論上是兩家公司的兩個不同產品，而不應將其理解為某個固定標準下，雙方各自交出的答卷。
兩種5nm工藝的晶體管密度
鑒于篇幅關系，本文就不再科普FinFET晶體管結構，以及Fin Pitch、Gate Pitch、CPP、不同金屬層的基本概念了。對這些內容感興趣的同學，可閱讀《為什么說Intel的10nm工藝比別家7nm更先進？（上）》，里面有比較詳細的科普。
下面這兩張圖表給出的數據分別來自Scotten Jones（IC Knowledge，via Semiwiki）和David Schor（WikiChip Fuse）。下圖綜合了三星、臺積電已公開的信息，以及針對現有公開信息的一些分析。
來源：Scotten Jones, IC Knowledge via SemiWiki[1]，發布于2019.5
來源：David Schor, WikiChip Fuse[2]，發布于2020.3
這其中值得一提的主要是晶體管密度（Transistor Density），此處IC Knowledge預計臺積電N5工藝的密度為173.1 MTr/mm?（百萬晶體管每平方毫米，特指邏輯電路HD高密度單元庫），WikiChip Fuse此前預估數字則為171.3 MTr/mm?[2]。
IC Knowledge預計三星5LPE工藝的晶體管密度（UHD超高密度單元）126.5 MTr/mm?，WikiChip則預估為126.89 MTr/mm?[3]。
臺積電N5邏輯電路1.84倍晶體管密度提升，與同功耗水平下15%速度提升
雖然有區別，但量級上差不多，臺積電N5還是比三星5LPE要高出不少的（Scotten Jones在2019年年末又更新過一次晶體管密度預估，似乎又大了不少[4]）。無論如何，這一點也能看出臺積電和三星的5nm雖然都叫5nm，但跨步幅度還是很不一樣。
另外在CPP（contacted poly pitch，柵間距）、M2P（Metal 2 Pitch，金屬間距）這樣的晶體管關鍵數值上，大神們預估的值也有一些差異，IC Knowledge標臺積電N5工藝的CPP是50nm，WikiChip則估算為48nm;而M2P，IC Knowledge后來又將其更新到了28nm。這兩張表格僅供參考——注意其發布時間也有差異。
事實上，三星5LPE與上一代7LPP相比，就單個晶體管的關鍵參數來看，各部分是幾乎沒有變化的，晶體管密度提升依靠的主要是單元庫變化，以及各種scaling booster方法（比如SDB）。
臺積電N5可不是這樣。此處未詳細列出N5相比N7的晶體管各部分關鍵參數變化。從WikiChip提供的數據來看，CPP間距N7為57nm，N5則為48nm;MMP則從40nm縮減到了30nm[5]。這也進一步佐證了三星5LPE屬于7LPP的同代加強或過渡，而臺積電N5是N7的完整迭代。
驍龍888“翻車”都是5nm的鍋嗎？
很多人說高通被三星坑了，這話大抵上是站不住腳的，或者其功耗表現不佳并不只是三星的鍋。芯片設計12-18個月周期，在前期定義配置時，選擇的制造工藝就已經定下來了，如今設計與制造的緊密程度是相當之甚的——且當代工藝差異，也不大可能在芯片設計階段中途突然就轉到另一種工藝上。
高通驍龍888選擇三星5LPE工藝，必然是有自己的考量的。高通也絕對不可能不知道，前文提到5LPE與N5工藝這些最基本的差異。至于高通的考量究竟是制造成本本身，還是設計IP的遷移便利性，就不得而知了。或許將來TechInsights的深度拆解能探索一二。
此前的文章里提到過，這些晶體管密度數字只具有參考價值。一方面在于不同時代計算晶體管密度的方法是有差別的，這在《為什么說Intel的10nm工藝比別家7nm更先進？（上）》一文中就已經詳細提過了。而且一顆芯片上，晶體管并不是只有邏輯電路，更非僅采用HD高密度單元，晶體管也不是均勻分布。具體的仍要看芯片本身的設計。
在IEDM上，臺積電提到對于包含60%邏輯單元、30% SRAM，以及10%模擬I/O的移動SoC而言，其5nm工藝能夠縮減芯片35%-40%的尺寸——這樣的值是更具參考價值的。
至于工藝迭代或增強，對性能、功耗產生的具體影響，廠商公布的數字恐怕是很難驗證的。后文會提到三星5LPE通過引入6T UHD單元、減fin以減少單元高度的方式來實現晶體管密度33%的增加。它對性能帶來的影響也很難考證，或者我們這些業外人士也無法搞清楚，這種方案究竟是好還是不好。
去年在上海舉辦的Exynos芯片發布會上，三星有提到5LPE令芯片面積降低35%，功耗效率提升20%，性能表現提升10%。臺積電則針對N5的功耗和性能數字提過，同功耗下速度提升15%，同性能下功耗降低30%。這些數字的意義可能都并不大，尤其在面對各種不同的IC設計時。
舉個例子，驍龍888的CPU部分，大核心Cortex-X1。Cortex-X1是Arm的Greek家族CPU架構，它與當時一同公布的Cortex-A78在設計理念上就有較大差異。通常移動CPU更看重低功耗，并且要在功耗、性能與面積（PPA）之間達成平衡，功耗與能耗比更是每年Arm升級IP的重點。
但Cortex-X1是打破了這種傳統的。其設計指針更偏向性能，且在功耗、面積方面有一定妥協。X1架構有了明顯拓寬，在A78設計基礎上，再加包括前端5-wide解碼寬度，renaming帶寬最高每周期8 Mop，NEON加倍，L2、L3 cache加倍等。Mop cache條目加倍，甚至比Intel Sunny Cove（十代酷睿）還要大。
比較具有代表性的是Re-order Buffer（ROB）增加到224條目，此前是160，以提升指令亂序與并行度。以前Arm在這方面是一直偏保守的。Arm以前曾提過，ROB拓寬帶來的性能提升，與芯片面積增加，兩者關系不呈線性，而且還需要以功耗為代價。Cortex-X1顯然已經看破這些了。更多有關Cortex-X1的架構拓寬，不是本文要探討的重點。
雖然論架構寬度，Cortex-X1的基礎設計還是沒法和蘋果Firestorm（M1與A14）比，但Cortex-X1面向芯片制造商開始采用一種“Cortex-X Custom Program”授權計劃。這種授權方式下，客戶可以對微架構做進一步定制，比如說要求更大的ROB、改進的prefetcher等。我們不知驍龍888針對Cortex-X1的具體實施，不過它以性能為更高優先級的設計，致驍龍888產生不對等的功耗，設計與IP也是重要因素。
Arm在此前發布Cortex-X1時大力宣傳了其IPC及性能提升，但對功耗和面積效益語焉不詳。AnandTech猜測，X1面積和功耗都可能是A78的1.5倍；在預設功耗（power）下，X1核心的能效（energy efficiency，每焦耳的性能）會比A78糟糕23%[6]。
當然我們不能就此認定，驍龍888峰值性能下的功耗與能效比都是Cortex-X1的問題，而且Cortex-X1設計原則本身就是如此。驍龍888涉及到的問題可能覆蓋了Arm、高通、EDA工具廠商，以及三星foundry。何況驍龍888 GPU部分的Adreno 660針對上代改進（提頻）也比較倉促。單純說驍龍888的功耗問題需要三星5LPE工藝背鍋，顯然是不靠譜的。
至于很多人說5nm“集體翻車”，前文談到了臺積電N5工藝與三星5LPE差異較大，演進方向也不同。而將5nm一概而論，以驍龍888和麒麟9000為例來說“這一代工藝都不行”更是無稽之談。在麒麟9000的GPU IP上，Arm為Mali G78設計，堆至多24個核心原本就相當令人困惑。
即便要說臺積電N5工藝“翻車”，或者三星5LPE“翻車”，這兩輛車“翻”的姿勢和方向應該也有很大差異。
最后提一提后續改進版工藝，三星方面自然就是4LPE了，而臺積電則為N5P。4LPE的晶體管和大部分基本思路都與5LPE一致，不過金屬互聯間距有進一步的縮減；而臺積電的N5P與N5有著相同的設計規則，完全的IP兼容性，同功耗下7%性能提升，同性能夠下15%功耗降低。