據路透社報道，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）的首席執行官彼得·維尼克于1月19日表示，截至目前該公司仍未獲得向中國出口用于制造芯片的最新光刻機的許可。

　　阿斯麥是光刻系統的主要制造商，光刻系統主要用于制造芯片。據此前報道，在美國政府的壓力下，荷蘭政府拒絕授予阿斯麥出口這些機器的許可，理由是這些機器被認為是具有軍事用途的“兩用”商品。

　　據此前報道，在2020年三季度財報發布后，阿斯麥的執行副總裁和CFO羅杰·達森（Roger Dassen）接受采訪稱，如果阿斯麥從荷蘭向中國客戶銷售DUV（深紫外線）光刻系統，是不需要出口許可證的。但如果向中國客戶直接出口涉及美國方面的零部件及系統，按照美國要求，就必須獲得出口許可。這意味著，比DUV更先進的EUV（極深紫外線）光刻機的確不能直接賣給中國。

　　阿斯麥計劃2022年將其生產能力提高到55臺EUV光刻設備，到2023年達到每年超過60臺。相比之下，該公司2020年生產了35臺EUV光刻機。

　　光刻是芯片制造的核心環節，也是研發難度最大的半導體設備。目前，阿斯麥壟斷著全球最頂尖的光刻機市場，該公司也因此被美國視為圍堵中國大陸芯片產業發展的“政治棋子”。阿斯麥（ASML）CEO溫彼得（Peter Wennink）在做出上述表述的同時還透露，阿斯麥尚未獲得向中國大陸出口最先進光刻機的許可，但一些生產成熟制程的光刻機出口并不受限制。

　　從出貨地來看，中國臺灣是阿斯麥的最大市場，四季度有51%的光刻系統發往當地，占比環比提升5個百分點；韓國是該公司第二大市場，同期有27%的光刻系統發往當地，占比環比下降6個百分點；中國大陸是阿斯麥第三大市場，四季度有22%的光刻系統向當地出貨，占比提升12個百分點。2021年三季度，美國和日本分別在阿斯麥出貨中占比10%和1%，但四季度占比均意外降為0，具體原因尚不清楚。

　　阿斯麥光刻機出貨信息

　　過去幾年，阿斯麥一直在研發高數值孔徑（0.55 NA）EUV光刻機。這種EUV光刻機采用最新的光學設計，具有更高的分辨率（由13nm升級到8nm），可以使芯片面積縮小1.7倍，晶體管密度增加2.9倍。與目前的0.33 NA EUV光刻機相比，0.55 NA光刻機可以顯著提高良率、降低成本和縮短生產周期。當然，0.55 NA光刻機的價格也相當昂貴，每臺售價約為3億美元（約合人民幣19億元），比0.33 NA光刻機售價高出一倍。

　　目前，臺積電等生產7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻機，而第一代0.55 NA光刻機TWINSCAN EXE：5000還在研發過程中，預計2023年上市。早在2018年，英特爾就率先向阿斯麥下單第一代0.55 NA EUV光刻機，該公司也有望成為首個高數值孔徑EUV光刻機的使用者，并將其用于3nm及以下制程。

　　從2018年開始，阿斯麥就試圖向中國大陸銷售EUV光刻機，希望進一步進入中國大陸市場，但荷蘭政府一直未批準其出口許可申請。在美國的持續施壓之下，這一請求已被荷蘭官員擱置。溫寧克在財報發布當天表示，他擔心進一步的出口限制。“我對任何政府采取的出口管制措施都感到擔憂。我們嚴重缺乏成熟的半導體技術，我們需要成熟的制造能力。”