《電子技術(shù)應(yīng)用》
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消息稱國產(chǎn)17nm工藝內(nèi)存芯片良率已達(dá)40%

2022-02-23
來源:21ic
關(guān)鍵詞: 國產(chǎn) 17nm 芯片

經(jīng)過幾年的追趕,國產(chǎn)DRAM內(nèi)存芯片由合肥長鑫在2019年量產(chǎn),首發(fā)的是19nm工藝,今年合肥長鑫就要推出下一代的17nm工藝內(nèi)存芯片了,不過首發(fā)產(chǎn)品不是傳聞中的DDR5,而是DDR4。

來自大摩的分析稱,合肥長鑫的17nm工藝DRAM芯片良率已經(jīng)達(dá)到了40%,預(yù)計(jì)Q2季度就會給客戶供應(yīng)產(chǎn)品,其成本相比臺系廠商的20nm、25nm工藝內(nèi)存更有優(yōu)勢。

至于生產(chǎn)方面,大摩稱合肥長鑫的產(chǎn)能今年會增加到8萬片晶圓/月,并在北京新建工廠,量產(chǎn)17nm工藝內(nèi)存芯片。

此前的報(bào)道中,長鑫還會研發(fā)7nm及以下工藝的DDR5、LPDDR5等內(nèi)存,再下一代的10G5工藝中,除了DDR5、LPDDR5之外還有GDDR6顯存。

此外,長鑫在2020年、2021年分別實(shí)現(xiàn)了4.5萬片晶圓/月、6萬片晶圓/月的目標(biāo),2022年的產(chǎn)能目標(biāo)是12萬片晶圓/月,未來的產(chǎn)能目標(biāo)是30萬片晶圓/月。




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