Mentor Graphics Corp.（納斯達(dá)克：MENT）今天宣布該公司與 TSMC（臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司，簡(jiǎn)稱臺(tái)積電）達(dá)成10納米(nm) 的合作協(xié)議。為滿足用于早期客戶的測(cè)試芯片和IP（互聯(lián)網(wǎng)協(xié)議）設(shè)計(jì)起動(dòng)的10納米鰭式場(chǎng)效晶體管(Fin Field-Effect Transistor；FinFET) 的工藝要求，已經(jīng)改進(jìn)了物理設(shè)計(jì)、分析、驗(yàn)證和優(yōu)化工具。基礎(chǔ)架構(gòu)包括 Olympus-SoC™ 數(shù)字設(shè)計(jì)系統(tǒng)， Analog FastSPICE (AFS™)平臺(tái)（含AFS Mega）和 Calibre® 結(jié)束解決方案 ( Calibre® signoff solution )。
TSMC 設(shè)計(jì)基礎(chǔ)架構(gòu)營(yíng)銷部 (Design Infrastructure Marketing Division) 高級(jí)總監(jiān) Suk Lee 表示：“TSMC 和 Mentor正在進(jìn)行廣泛的工程工作，以便讓雙方的客戶都能很好地利用先進(jìn)的工藝技術(shù)。每一個(gè)節(jié)點(diǎn)都需要進(jìn)行許多創(chuàng)新才能滿足新的物理要求、提高客戶設(shè)計(jì)賦能 (design enablement) 的精確度，與此同時(shí)性能更優(yōu)、轉(zhuǎn)回時(shí)間更短。”
Calibre 提供布線形狀的全色彩能力，以幫助設(shè)計(jì)者指定符合10納米規(guī)則要求的設(shè)計(jì)艙(cockpit)之外的色彩分配。針對(duì)定制集成電路布線圖，改進(jìn)后的Calibre RealTime 產(chǎn)品能進(jìn)行互動(dòng)的色彩檢查，同時(shí)利用芯片廠認(rèn)可的Calibre結(jié)束平臺(tái)能使用所有定制布線工具進(jìn)行設(shè)計(jì)。
針對(duì)10納米 FinFET 設(shè)計(jì)，Mentor 和 TSMC 還改進(jìn)了Calibre 填充解決方案。Calibre YieldEnhancer 中 SmartFill ECO 的功能支持“隨時(shí)填充 (fill-as-you-go)”工作流，以確保IP和其它設(shè)計(jì)模塊在設(shè)計(jì)過(guò)程中都能準(zhǔn)確地呈現(xiàn)。當(dāng)部分設(shè)計(jì)被修改時(shí)，SmartFill ECO功能能重新填充僅受影響的那部分，從而最小化轉(zhuǎn)回時(shí)間 (turnaround time)。同樣的，為在諸如TSMC10納米這樣的先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)上維持設(shè)計(jì)層級(jí)實(shí)現(xiàn)高效的布線后模擬， Calibre LVS 也被改進(jìn)了。
兩家公司還聯(lián)手調(diào)整了 Mentor® Olympus-SoC 的布線和路由系統(tǒng)讓它能滿足 TSMC 的10納米FinFET 的要求。為了能用于10納米 FinFET，數(shù)據(jù)庫(kù)、布線、時(shí)鐘樹(shù)合成、提取、優(yōu)化和路由引擎都做了重大的改進(jìn)。
為了確保10納米 FinFET 設(shè)備的準(zhǔn)確的電路模擬，Mentor 與 TSMC 合作讓 BSIM-CMG（伯克利共多柵極晶體管）和 TMI 模型在 Analog FastSPICE 平臺(tái)（如AFS Mega）上能用于高速設(shè)備和電路層模擬。Calibre xACT™ 提取產(chǎn)品和 Calibre nmLVS™ 產(chǎn)品也支持新的10納米 FinFET 模型。
因Mentor 和 TSMC在設(shè)計(jì)賦能方面的合作讓客戶取得成功的案例，將于9月30日在San Jose Convention Center（圣若澤會(huì)展中心）舉行的TSMC的開(kāi)放創(chuàng)新平臺(tái)生態(tài)系統(tǒng)論壇(Open Innovation Platform Ecosystem Forum)會(huì)議上講述。了解詳情，請(qǐng)登錄TSMC網(wǎng)站 www.tsmc.com。