半導體制程持續(xù)微縮，量產技術已達14納米，半導體大廠更朝10納米、7納米邁進，連5納米也在規(guī)劃中。然而，在制程良率的提升上，半導體業(yè)者卻可能面臨“看不見”的難題。中國臺灣地區(qū)工研院與臺積電合作開發(fā)的“新世代溶液中納米微粒監(jiān)控系統”，就是這雙新眼睛。
在半導體濕式制程中，晶圓表面的清洗、蝕刻與研磨皆需仰賴特定化學溶液進行，而溶液中納米粒子的尺寸與分布會影響晶圓電路圖案（pattern）的制程結果，因此必須持續(xù)監(jiān)控溶液中粒子大小及數量，只要發(fā)現溶液粒子不符規(guī)格，就要馬上暫停及更換，以維持產品良率。
臺灣工研院量測技術發(fā)展中心何信佳博士指出，傳統的雷射光學設備“看不到”化學溶液中40納米以下的微粒，因此，半導體業(yè)者需擁有一雙能真正看得到更小微粒的“新眼睛”。
臺積電想利用量測氣體粒子的方法量測制程化學溶液，且必須能夠24小時連續(xù)在產線上進行監(jiān)測。臺積電先是向美國知名研發(fā)機構NIST求援，該機構專家轉而向臺積電推薦曾在2010年前往NIST研究的何信佳。
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