尼康昨日宣布，已對荷蘭半導體行業光刻系統供應商阿斯麥（ASML）和德國光學及光電子學設備廠商卡爾蔡司（Carl Zeiss）提起訴訟，指控這兩家公司未經授權而使用其光刻技術。
尼康稱，已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟。卡爾蔡司是阿斯麥的光學設備供應商。尼康在一份聲明中稱：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統中使用尼康的專利技術。”
當前，光刻系統被廣泛應用于制造半導體，而阿斯麥又主導著半導體光刻機市場。評級機構“惠譽評級”（Fitch Ratings）今年1月發布的調研報告顯示，在高端光刻機市場，阿斯麥的份額高達90%。
尼康在訴訟文件中稱，要求阿斯麥和卡爾蔡司對未授權使用專利技術而做出賠償。
對此，阿斯麥總裁兼CEO彼得·溫尼克（Peter Wennink）稱：“尼康的訴訟毫無依據，沒有必要，為半導體市場制造了不確定性。”溫尼克還稱，阿斯麥曾多次試圖與尼康談判，希望能對當前的一份交叉授權協議進行延期。
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