根據(jù) 《路透社》 的報(bào)導(dǎo)，日本光學(xué)大廠尼康 （Nikon）于24日表示，已對(duì)荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠艾司摩爾 （ASML Holding NV） 和合作伙伴卡爾蔡司 （Carl Zeiss AG） 提起法律訴訟，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經(jīng) Nikon 的許可下將其微影 （lithography） 技術(shù)專利用于光刻機(jī)上，并運(yùn)用在半導(dǎo)體制造業(yè)中。

報(bào)導(dǎo)進(jìn)一步表示，世界第 8 大芯片設(shè)備制造商 Nikon 在 24 日指出，已經(jīng)在荷蘭、德國(guó)和日本針對(duì)生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻機(jī)的荷蘭廠商 ASML 和旗下光電供應(yīng)商 Carl Zeiss 提起了專利侵權(quán)案件。Nikon 在一份聲明中指出，ASML 和 Carl Zeiss 在沒有得到許可的情況之下，采用了 Nikon 的專利技術(shù)，運(yùn)用在 ASML 的光刻機(jī)中。而光刻機(jī)是用在全球的半導(dǎo)體制造業(yè)中先進(jìn)制程不可缺少的設(shè)備，如此以進(jìn)一步侵犯了 Nikon 的專利。Nikon 表示，正在尋求損害賠償，并防止 ASML 和 Carl Zeiss 出售該技術(shù)。

目前在全球的半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)中，ASML 主導(dǎo)半導(dǎo)體光刻機(jī)的產(chǎn)品。根據(jù)惠譽(yù)評(píng)級(jí) （Fitch Ratings） 在 2017 年 1 月份的一份研究報(bào)告中指出，這家荷蘭公司在這樣的高端的半導(dǎo)體設(shè)備中，占有 90% 的市場(chǎng)占有率。而根據(jù) ASML 在 19 日所公布的 2017 年第 1 季財(cái)報(bào)顯示，第 1 季營(yíng)收凈利達(dá) 19.4 億歐元，毛利率為 47.6%，EUV 極紫外光微影系統(tǒng)的未出貨訂單則累積到 21 臺(tái)，價(jià)值高達(dá) 23 億歐元。而且預(yù)估 ASML 在 2017 第 2 季營(yíng)收凈利將落在 19 到 20 億歐元之間，毛利率約為 43% 到 44%。

ASML 的總裁兼CEO Peter Wennink 對(duì)于 Nikon 所發(fā)起的訴訟表示，Nikon 所提起的訴訟不但不必要，還毫無根據(jù)。而且，這還將對(duì)于全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)造成不確定性。他進(jìn)一步指出表示，ASML 已多次嘗試與 Nikon 協(xié)商延長(zhǎng)交叉許可協(xié)議。

Nikon 則表示，法律訴訟是在由美國(guó)退休法官于 2016 年底進(jìn)行的調(diào)解未成之后所決定發(fā)起的。而根據(jù) Nikon 的說法，提起訴訟的 3 項(xiàng)微影技術(shù)專利，ASML 和 Carl Zeiss 兩家公司分別在 2004 年支付 Nikon 8,700萬 美元和 5,800 萬美元的授權(quán)金。授權(quán)期限在 2009 年到期，而 2014 年底其專利權(quán)的過渡期也到期之后，雙方在 2016 年底經(jīng)過調(diào)解協(xié)商延長(zhǎng)交叉許可協(xié)議未成。