之前三星宣布自家8/7/6/5/4nm工藝已在路上，今天臺積電也不甘示弱地宣稱將在2018年量產(chǎn)7nm，而且一年后再投產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)加持的新版7nm。
Intel將被反超 臺積電7nm工藝明年投產(chǎn)
EUV技術(shù)是半導體領(lǐng)域多年來一直夢寐以求的里程碑式技術(shù)，如果達成可以大大向前推進摩爾定律，并大幅度提高產(chǎn)能，但該技術(shù)過于復雜，一再推遲，就連Intel也始終搞不定。
三星計劃在7nm工藝上首次使用EUV，時間點不詳，估計最快也得2019年，理論上和臺積電差不多。
7nm工藝則可以同時適用于移動設(shè)備、高性能計算和汽車領(lǐng)域，目前已有12款移動芯片完成流片。據(jù)稱AMD、NVIDIA都會使用臺積電7nm。
繼續(xù)往前，臺積電的5nm則主打移動設(shè)備和高性能計算，以及2019年試產(chǎn)。
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。