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臺積電7nm明年量產:后年EUV

2017-05-30

過去以及未來幾年,臺積電三星都在新工藝上開足了馬力,幾乎一年一個樣,比如三星就要連續推出8/7/6/5/4nm工藝。

臺積電也不甘示弱,聯合CEO魏哲家(CC Wei)今天就公開表示,臺積電將在2018年量產7nm,而且一年后再投產EUV極紫外光刻技術加持的新版7nm。

EUV技術是半導體領域多年來一直夢寐以求的里程碑式技術,如果達成可以大大向前推進摩爾定律,并大幅度提高產能,但該技術過于復雜,一再推遲,就連Intel也始終搞不定。

三星計劃在7nm工藝上首次使用EUV,時間點不詳,估計最快也得2019年,理論上和臺積電差不多。

魏哲家表示,臺積電的制造工藝主要面向移動、高性能計算、汽車、IoT物聯網四大領域,其中現在的10nm主要針對移動設備。

7nm工藝則可以同時適用于移動設備、高性能計算和汽車領域,目前已有12款移動芯片完成流片,適合汽車設備的版本會在明年達到AEC-Q100 (Grade 0)標準,面向高性能計算的版本也即將定型。——據說,AMD、NVIDIA都會使用臺積電7nm。

繼續往前,臺積電的5nm則主打移動設備和高性能計算,以及2019年試產。

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