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臺積電7nm流片13次

2017-07-19

隨著10nm芯片逐步滲透進消費電子產品,新的制程探索也在加速。目前已公布的7nm路線圖中,GF和臺積電的速度最快,三星事實落后。據韓媒報道,三星決定加快6nm的步伐,其中試產2019年初開啟,量產在2019年下半年開工。此舉旨在和臺積電搶奪2019年高通和蘋果的手機芯片代工合同。

Digitimes報道稱,臺積電目前已經流片了13張7nm樣品芯片,2018年即可開始批量生產。

荷蘭艾斯摩表示,EUV(極紫外)光刻機可用于7/6/5nm工藝,Intel、臺積電、三星等都采購了相關設備。只是,目前唯一沒有披露10nm以下明確規劃的就是Intel了。

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