據(jù)今日公布的一項(xiàng)調(diào)查顯示，芯片行業(yè)的高管們?cè)絹碓綐酚^地認(rèn)為，該行業(yè)將采用極端的紫外線光刻技術(shù)和多波束掩模。新系統(tǒng)將有助于推動(dòng)先進(jìn)設(shè)備的發(fā)展，而這一時(shí)代正變得越來越復(fù)雜和昂貴。

75個(gè)半導(dǎo)體照明機(jī)構(gòu)的調(diào)查中有75％表示，他們預(yù)計(jì)EUV將在2021年之前在大批量生產(chǎn)中被采用。只有1％的人表示EUV將不會(huì)被接受，低于去年的6%，而這個(gè)比例在2014年則高達(dá)35%。

“在我看來，毫無疑問， EUV將在未來幾年內(nèi)開始采用7nm+進(jìn)程?！盇ki Fujimura說，他是一名行業(yè)資深人士，也是eBeam協(xié)會(huì)的發(fā)言人，該組織在夏季進(jìn)行了這項(xiàng)調(diào)查。

英特爾、三星和積電對(duì)EUV開發(fā)商ASML進(jìn)行了數(shù)十億美元的投資，后者轉(zhuǎn)而收購了光源制造商Cymer，推動(dòng)復(fù)雜且昂貴的技術(shù)向前發(fā)展。Fujimura說:“在過去的幾年里， 7和5納米難以實(shí)現(xiàn)的問題被過多談?wù)摿?，每一個(gè)人都認(rèn)為這或許是整個(gè)行業(yè)的麻煩。” Fujimura是D2S的首席執(zhí)行官，D2S是使用gpu來加速面具缺陷修復(fù)的系統(tǒng)制造商。

這種轉(zhuǎn)變并不容易。芯片制造商預(yù)計(jì)將在現(xiàn)有的浸入式步進(jìn)器中啟動(dòng)7nm進(jìn)程，然后將一些步驟遷移到EUV設(shè)備上，以減少對(duì)多模式的需求。

EUV是如此新穎，需要在機(jī)器和生態(tài)系統(tǒng)上投入如此多的資金來支持它，以至于你不能一步到位。Fujimura說:“你必須要比這更循序漸進(jìn)地引入它。而不是一開始就讓EUV做全部的事情。” Fujimura在1979年開始了自己的職業(yè)生涯，在他的職業(yè)生涯中，他有三次創(chuàng)業(yè)經(jīng)歷，包括兩次Cadence Design系統(tǒng)設(shè)計(jì)。

在過去的12個(gè)月里，掩膜制造商創(chuàng)造了1041個(gè)EUV掩膜，高于一年前的382個(gè)。另一項(xiàng)針對(duì)10位頂級(jí)設(shè)備制造商的調(diào)查顯示，EUV掩膜的產(chǎn)量?jī)H為64.3%。

Fujimura說:“我把這么低的產(chǎn)量歸因于創(chuàng)業(yè)公司的收益。有人可能會(huì)說，這一數(shù)字高達(dá)64.3%，令人吃驚?！?/p>