12月24日，日本大型半導體制造設備廠商東京電子宣布，將于2021年1月發售清洗機“CELLESTA SCD”，該產品帶干燥功能，可提高最尖端半導體的成品率。通過增加使用“超臨界流體”(基本沒有表面張力)的干燥工序，防止半導體上的微細結構被破壞。這款清洗機將用于“微細化”和“多層化”的最尖端半導體制造，“微細化”是縮小電路線寬，“多層化”是在高度方向上層疊電路。
據《日本經濟新聞》網站12月18日報道，新產品在東京電子的枚葉式清洗機CELLESTA系列中配備了超臨界干燥專用反應室，將用于制造結構不斷微細化、復雜化的邏輯半導體及個人電腦等使用的半導體存儲器DRAM。
報道稱，通過使用超臨界流體，可以降低干燥時微細圖案結構被液體表面張力破壞的風險。新產品在干燥工序中以超臨界流體代替酒精作為清洗液。
本站內容除特別聲明的原創文章之外，轉載內容只為傳遞更多信息，并不代表本網站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創文章及圖片等內容無法一一聯系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。