眾所周知，在芯片的制造過程中，光刻機(jī)是最重要且必不可少的一種設(shè)備，從成本來看，光刻機(jī)占所有芯片制造設(shè)備的22％左右。

成本高，占比重還在其次，最重要的是，全球能夠制造光刻機(jī)的廠商并不多，也就那么幾家，而用于10nm以下工藝的EUV光刻機(jī)，全球只有ASML一家能造。

這問題就嚴(yán)重了，意味著所有想生產(chǎn)10nm以下芯片的廠商，必須找ASML買光刻機(jī)，買不到的話，在當(dāng)前的技術(shù)條件下，就無法進(jìn)入到10nm，這才是問題的根本。

因?yàn)榇蠹叶级脑颍覀兪钦褹SML買不到EUV光刻機(jī)的，所以大家都明白，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)必須崛起，否則中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)無法崛起。

那么問題就來了，目前國(guó)內(nèi)的光刻機(jī)水平，究竟什么樣了，與ASML相比，究竟差距有多大？

先說說全球的光刻機(jī)格局，目前全球光刻機(jī)市場(chǎng)基本都由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷，而國(guó)內(nèi)的上海微電子產(chǎn)的光刻機(jī)，市場(chǎng)占有率基本可以忽略，特別是在芯片制造光刻機(jī)這一塊，更多用于封測(cè)、光刻膠生產(chǎn)等領(lǐng)域。

2020年，這三大廠商出貨光刻機(jī)413臺(tái)，增長(zhǎng)15％。ASML占258臺(tái)，比例為62．47％；尼康31臺(tái)，比例為7．51％；佳能公司122臺(tái)，比例29．54％。

而7nm及以下的EUV光刻機(jī)，只有ASML能生產(chǎn)。尼康的水平是生產(chǎn)浸入式光刻機(jī)，標(biāo)稱精度是28nm，經(jīng)多重曝光，一般最多也只用于14nm。

而佳能生產(chǎn)的光刻機(jī)，標(biāo)稱精度是90nm，經(jīng)多重曝光，最多也只用到28nm左右，這就是這三大光刻機(jī)廠商的情況。

而國(guó)內(nèi)最牛的是上海微電子，已公開量產(chǎn)的光刻機(jī)標(biāo)稱精度是90nm，經(jīng)多重曝光，最多也只用到28nm，與佳能一致，但事實(shí)上沒人多重曝光這么來干，因?yàn)槎嘀仄毓鈺?huì)良率顯著降低，導(dǎo)致成本飆升。

但之前有媒體報(bào)道稱，上海微電子已經(jīng)在生產(chǎn)28nm的光刻機(jī)，多重曝光光后生產(chǎn)7nm芯片，預(yù)計(jì)在2021－2022年交付，但沒具體的報(bào)道，所以不能亂說。

所以當(dāng)前國(guó)內(nèi)明面上的光刻機(jī)水平就是90nm，就算多重曝光，最多也就是28nm，考慮到ASML的DUV光刻機(jī)是不受限的， 估計(jì)沒誰買90nm的，來生產(chǎn)28nm。所以，差距真的是非常非常大。

事實(shí)上，EUV光刻機(jī)一共有10多萬個(gè)零件，而ASML有5000多供應(yīng)商，可見要生產(chǎn)一臺(tái)EUV光刻機(jī)，真的不容易，但再難，這個(gè)關(guān)我們也必須沖過去。