EUV光刻機有多重要，相信了解芯片產業的人都清楚的，因為只要進入芯片7nm工藝就必須用EUV光刻機。
而EUV光刻機目前只有ASML一家能夠生產，其它的光刻機廠商，像日本的尼康、佳能，中國的上海微電子都無法生產。
那么問題就來了，如果說上海微電子起步晚，技術有點落后，還生產不了EUV光刻機，那為何歷史比ASML更久的尼康、佳能，它們各種技術、設備也不受限，為何也生產不了EUV光刻機？
原因在于ASML在生產出EUV光刻機后，給其它廠商設了幾道坎，這幾道坎就限制住了其它廠商順利的生產EUV光刻機來。
EUV光刻機有三大核心技術，一塊是曝光光源，也就是極紫外線的產生。第二塊就是對準系統，也就是如何將產生的紫外線收集起來。第三部分才是光刻等技術的整合。
在第一部分、第二部分這里，ASML是設置了坎的，其它廠商如果突破不了這個坎，就生產不了EUV光刻機出來。
先說是曝光光源，也就是極紫外線，這里ASML先是收購了美國企業Cymer，后來又與德國的TRUMPF獨家合作，這就保證了EUV光線的產生技術只有ASML有，不向ASML之外的廠商提供。
再說說對準系統，就是將產生的紫外線收集，這里是德國的蔡司半導體提供整體的方案，還提供后續所有鏡頭，而ASML與蔡司在這一塊也是獨家合作，蔡司不向另外的企業提供這項技術，而目前沒有任何其它廠商能夠達到蔡司的這個水平。
所以從第一、二部分就注定了EUV光刻技術，暫時只能掌握在ASML手中，除非其它企業在這兩塊，能夠達到TRUMPF、蔡司的技術，但目前還真沒有。
此外，在下游廠商上，ASML也是將臺積電、三星、英特爾變成了股東，這樣保證了這些廠商買EUV光刻機，只從ASML買，畢竟大家需求有限，EUV光刻機市場就這么大。
所以ASML就是先從上游的供應鏈，將技術掌握在自己手中，讓其它光刻機廠商得不到技術，生產不出EUV光刻機。
然后再從下游客戶，將客戶掌握在自己手中，讓其它光刻機廠商不敢輕易生產EUV光刻機，因為去掉這些主要客戶后，市場需求就不太夠了，就算其它廠商最終生產EUV光刻機也是虧本生意，所以兩方面著手，設置了幾道坎，讓EUV光刻機只有自己能生產。
