4月20日，國產半導體設備廠商拓荊科技股份有限公司(以下簡稱“拓荊科技”)正式登陸上海證券交易所科創板。

發行價格為71.88元/股，發行數量為3,161.9800萬股，成功募資約22.73億元(扣除發行費用后募集資金凈額約為21.28億元)，相比之前的計劃超募了12億元。

根據此前的招股計劃，拓荊科技擬募資月10億元，主要用于先進半導體設備的技術研發與改進項目、ALD設備研發與產業化項目、高端半導體設備擴產項目及補充流動資金。

拓荊科技今日開盤后，股價一度大漲46%，漲至104.96元/股，截至收盤股價回落至92.30元/股，漲幅28.41%，市值116.74億元。

助力半導體薄膜沉積設備國產化

據招股書顯示，拓荊科技成立于2010年4月，主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成晶圓制造三大核心設備，也是目前國內唯一一家產業化應用的集成電路PECVD、SACVD設備廠商。

拓荊科技主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備和次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備三個產品系列，并已廣泛應用于中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲、廈門聯芯、燕東微電子等國內晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產線，在不同種類芯片制造產線的多道工藝中得到商業化應用，同時公司已展開10nm及以下制程產品驗證測試，公司在研產品已發往國際領先晶圓廠參與其先進制程工藝研發。

憑借長期的技術研發和工藝積累，拓荊科技成為較早打破國際巨頭技術壟斷局面的企業。公司100%自主知識產權研制的PECVD設備，是國內唯一能夠應用于大規模集成電路生產線的12英寸全自動PEVCD設備，已用于28nm的集成電路的批量生產，同時具有14-10nm的技術的延展性，產品性能指標表現達到了世界先進水平。

此外，拓荊科技還建成了我國首個半導體薄膜設備生產基地，總建筑面積40,000平方米，包括研發及生產用十級，百級和千級無塵潔凈間。按照發展規劃，公司將開展配適10nm以下制程的PECVD產品研發;開發Thermal ALD 和大腔室PE ALD;同時升級SACVD設備，研發12英寸滿足28nm以下制程工藝需要的SACVD設備。

不過，需要指出的是，與中國大陸半導體專用設備企業相比，國際巨頭企業擁有客戶端先發優勢，產品線豐富、技術儲備深厚、研發團隊成熟、資金實力較強等優勢，國際巨頭還能為同時購買多種產品的客戶提供捆綁折扣。

從全球市場份額來看，薄膜沉積設備行業呈現出高度壟斷的競爭局面，行業 基本由應用材料(AMAT)、ASMI、泛林半導體(Lam)、東京電子(TEL)等國際巨頭壟斷。2019 年，ALD 設備龍頭東京電子(TEL)和先晶半導體(ASMI) 分別占據了 31%和 29%的市場份額，剩下 40%的份額由其他廠商占據;而應用 材料(AMAT)則基本壟斷了 PVD 市場，占 85%的比重，處于絕對龍頭地位;在 CVD 市場中，應用材料(AMAT)全球占比約為 30%，連同泛林半導體(Lam) 的 21%和 TEL 的 19%，三大廠商占據了全球 70%的市場份額。