近日國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈的企業(yè)之一，傳芯半導(dǎo)體公開宣布已經(jīng)20余項EUV光刻機技術(shù)專利，加上此前在激光光源、工作臺、鏡頭等方面所取得的成果，國產(chǎn)EUV光刻機已取得了重大進展，或許數(shù)年后國產(chǎn)EUV光刻機就將量產(chǎn)，這正讓ASML后悔莫及。

光刻機之所以難，在于它是集諸多行業(yè)的精華于一身，需要諸多產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)共同配合才能量產(chǎn)，一臺光刻機就有上萬個元件，可以說只是光刻機本身就是一條相當大的產(chǎn)業(yè)鏈。

此前清華大學機械工程系朱煜教授帶隊的清華大學研發(fā)團隊就已研發(fā)出光刻機雙工作臺，由此中國成為全球第二個可以生產(chǎn)雙工作臺的國家；此外激光頭、鏡頭等廠商也陸續(xù)生產(chǎn)出先進的組件，各個產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的努力正逐漸完善國內(nèi)的光刻機產(chǎn)業(yè)鏈。

此時傳芯半導(dǎo)體公開宣布已經(jīng)20余項EUV光刻機技術(shù)專利，意味著我國在更先進的EUV光刻機技術(shù)研發(fā)方面也已取得了重大突破。EUV光刻機的技術(shù)難度比當前正在攻克的DUV光刻機更大，在更先進的EUV光刻機都已取得技術(shù)突破的時候，DUV光刻機量產(chǎn)自然就更沒難度了。

中國在光刻機方面的技術(shù)迅速突破，在于此前具有一定的基礎(chǔ)，事實上在1990年代的時候，我國的光刻機技術(shù)與海外差距沒有如今那么大，只是后來由于海外光刻機企業(yè)的日漸強大，以及當時發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)時機未到，國產(chǎn)的光刻機產(chǎn)業(yè)鏈逐漸凋零，如今經(jīng)過近十年時間的努力，國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈再度打通也就不在話下。

中國在光刻機技術(shù)方面的快速突破，已讓ASML感到擔憂，事實上此前在美國的諸多壓力下，ASML的高管就表示限制ASML向中國供應(yīng)光刻機無助于全球產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展，中國遲早能解決光刻機問題。

對于ASML來說，中國市場對它意義重大，2021年和今年一季度中國市場為它貢獻了三分之一的收入，已成為它的最大市場，如此大的市場，當然是ASML不能輕易舍棄的，事實今年一季度在諸多壓力下，ASML就緊急對中國出貨23臺DUV光刻機，更計劃在中國增加200名員工，以更好地為中國客戶服務(wù)，取得更多市場。

ASML另一重擔憂則是中國光刻機技術(shù)的快速發(fā)展，可能成為它的競爭對手，中國制造此前的事實一再證明，只要中國取得突破的技術(shù)，那么量產(chǎn)的產(chǎn)品往往比海外競爭對手的便宜許多，在成本方面ASML根本就不是中國同行的競爭對手。

中國除了繼續(xù)研發(fā)光刻機之外，還在研發(fā)無需光刻機的芯片制造工藝，這方面已有日本做出示范，日本企業(yè)研發(fā)的NIL工藝就無需光刻機并已給日本存儲芯片企業(yè)鎧俠采用，證明了無需光刻機也能生產(chǎn)芯片，而日本預(yù)計NIL工藝可用于5nm芯片的生產(chǎn)，如果這一工藝得到推廣對ASML更是滅頂之災(zāi)。

這些消息都無不讓ASML如鯁在喉，所以美國方面一再施加壓力，但是ASML卻一直都認為限制DUV光刻機沒有多大意義，DUV光刻機已是多年前就已成熟的技術(shù)，中國在DUV光刻機方面的進展將會更快，如今中國在EUV光刻機技術(shù)上的進展如此迅速，顯示出中國不僅在DUV光刻機技術(shù)方面進展迅速，在更先進的EUV光刻機技術(shù)方面同樣很快。

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