外媒報(bào)道指美國(guó)芯片企業(yè)美光已量產(chǎn)無(wú)需EUV光刻機(jī)的1β（1－beta）制造工藝，主要是因?yàn)?a class="innerlink" href="http://m.jysgc.com/tags/ASML" target="_blank">ASML的EUV光刻機(jī)實(shí)在太昂貴了，它希望繞開EUV光刻機(jī)來降低生產(chǎn)成本，這對(duì)ASML來說無(wú)疑是又一個(gè)重大打擊。

業(yè)界都清楚光刻機(jī)非常昂貴，第一代EUV光刻機(jī)售價(jià)達(dá)到1．2億美元，第二代EUV光刻機(jī)更將達(dá)到4億美元，昂貴的EUV光刻機(jī)讓芯片制造企業(yè)難以承受，但是為了推進(jìn)先進(jìn)工藝，它們還是無(wú)奈接受。

不過在諸多芯片制造企業(yè)當(dāng)中也有另類，日本的存儲(chǔ)芯片企業(yè)鎧俠就開辟了無(wú)需光刻機(jī)的芯片制造工藝NIL，據(jù)悉鎧俠早已將NIL工藝投入生產(chǎn)，大幅降低了成本，如今NIL工藝已達(dá)到10nm以下，預(yù)計(jì)可以應(yīng)用于5nm工藝生產(chǎn)。

日本成功開發(fā)無(wú)需光刻機(jī)的NIL工藝給全球芯片行業(yè)帶來啟發(fā)，不過美光研發(fā)的1β（1－beta）制造工藝仍然需要ASML的DUV光刻機(jī)，只是繞開了價(jià)格昂貴的EUV光刻機(jī)，據(jù)悉美光的1β（1－beta）制造工藝可以提高能效15％，存儲(chǔ)密度則提升35％以上，達(dá)到世界領(lǐng)先水平。

隨著美光研發(fā)出繞開EUV光刻機(jī)的芯片制造工藝，未來或許幾家存儲(chǔ)芯片企業(yè)三星、SK海力士等也會(huì)跟進(jìn)，畢竟如今存儲(chǔ)芯片價(jià)格大跌，降低成本成為存儲(chǔ)芯片企業(yè)生存的關(guān)鍵，如果三星和SK海力士不跟進(jìn)，那么它們將可能因?yàn)槌杀締栴}而落后于美光。

EUV光刻機(jī)是ASML賴以自豪的先進(jìn)技術(shù)，全球僅有ASML能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，日本兩家光刻機(jī)企業(yè)佳能、尼康只能生產(chǎn)DUV光刻機(jī)，然而ASML如今卻已面臨EUV光刻機(jī)難賣的局面。

臺(tái)積電已關(guān)閉4臺(tái)EUV光刻機(jī)，目前還面臨著先進(jìn)工藝產(chǎn)能過剩，為此以要求員工休無(wú)薪假期；Intel則已完成Intel 4工廠建設(shè)；三星的3nm工藝投產(chǎn)后面臨無(wú)客戶的問題，這三家購(gòu)買EUV光刻機(jī)的大客戶都不可能繼續(xù)采購(gòu)，如今美國(guó)芯片企業(yè)美光又宣布繞開EUV光刻機(jī)，那么ASML的EUV光刻機(jī)還能賣給誰(shuí)？

ASML或許該考慮中國(guó)芯片客戶了，由于眾所周知的原因，ASML無(wú)法對(duì)中國(guó)出售EUV光刻機(jī)，然而如今環(huán)境下，中國(guó)大陸以外的芯片制造企業(yè)都已不可能采購(gòu)EUV光刻機(jī)，而ASML本來還計(jì)劃倍增EUV光刻機(jī)產(chǎn)能，那么它如果還不能對(duì)中國(guó)出售EUV光刻機(jī)，這些EUV光刻機(jī)就會(huì)成為庫(kù)存。

全球芯片行業(yè)的衰退也給ASML帶來壓力，過去兩年全球大舉擴(kuò)張芯片制造產(chǎn)能，ASML由此獲得厚利，然而今年下半年以來全球芯片行業(yè)步入下行階段，芯片制造企業(yè)不僅不會(huì)擴(kuò)張產(chǎn)能，還在收縮產(chǎn)能，而中國(guó)大陸則為了推進(jìn)芯片自給率繼續(xù)推進(jìn)產(chǎn)能擴(kuò)張，可以說中國(guó)芯片已是ASML的救命稻草。

這個(gè)時(shí)候ASML就不得不考慮自己的生存問題了，如今的ASML確實(shí)處于輝煌頂峰，然而2005年之前它可是為生存而發(fā)愁，它也不想再回到那種吃了上頓沒下頓的日子吧，面對(duì)中國(guó)芯片市場(chǎng)這個(gè)大蛋糕，它需要考慮下如何打破限制而對(duì)中國(guó)出售EUV光刻機(jī)的問題了。

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