8 月 20 日消息，韓媒 businesskorea 今天（8 月 20 日）發(fā)布博文，曝料稱三星計劃削減 High-NA EUV 采購規(guī)模，而且和 ASML 聯(lián)合創(chuàng)立研究中心項目也遇到諸多障礙。

圖源：ASML

三星于 2023 年 12 月和 ASML 簽署了一份諒解備忘錄（MOU），將在韓國首都圈建立一個 EUV 聯(lián)合研究中心。

援引消息源報道，三星原本計劃在未來 10 年內(nèi)，采購 Twinscan EXE:5200、EXE:5400 和 EXE:5600 三款后續(xù) Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻機，而最新報道稱三星已經(jīng)通知 ASML，不僅削減 Twinscan EXE:5000 系列 EUV 光刻機采購數(shù)量，而且后續(xù)僅采購 EXE:5200。

報道稱這一決定是在副董事長 Jun Young-hyun 被任命為 DS（設(shè)備解決方案）部門的新負責人，并重新審查正在進行的項目和投資之后做出的。

一位熟悉情況的業(yè)內(nèi)人士說：

在京畿道華城購買土地建造研究設(shè)施的過程以及設(shè)計和審批過程都在進行中，然而，隨著三星決定減少設(shè)備引進，相關(guān)進程已完全停止。

聯(lián)合研究中心是否會在其他地方建立，或者建立本身是否會被取消，將在今后的討論中決定。