據韓媒 The Elec 昨日報道，三星正對 Tokyo Electron (TEL) 的 Acrevia GCB 氣體團簇光束（IT之家注：Gas Cluster Beam）系統進行測試。
TEL 的 Acrevia GCB 系統發布于今年 7 月 8 日，可通過氣體團簇光束對 EUV 光刻圖案進行局部精確整形，從而修復圖案缺陷、降低圖案粗糙度。
業內人士認為 TEL 的 Acrevia 系統可起到與應用材料 Centura Sculpta 系統類似的作用，即直接對 EUV 曝光圖案塑形，減少成本高昂的 EUV 多重曝光，進而縮短光刻流程并提升整體利潤率。
此外 Acrevia 系統還可用于消除在 EUV 光刻錯誤中占約一半的隨機錯誤，提升產品良率。
TEL 相關人士表示潛在客戶確實正在進行 Acrevia 系統測試，該設備預計將首先用于邏輯代工而非存儲器領域。
此前三星電子已在 4nm 工藝上對應用材料的 Centura Sculpta 進行了測試，如今又測試 TEL 的設備，旨在加強兩大半導體設備供應商間的圖案塑形訂單競爭。
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