近日，日本半導(dǎo)體材料大廠信越化學(xué)宣布，已經(jīng)制造出一種用于 GaN（氮化鎵）外延生長的 300 毫米（12 英寸）襯底，并于最近開始供應(yīng)樣品。
據(jù)介紹，信越化學(xué)的 QST 300mm 晶圓具有與 GaN 相同的熱膨脹系數(shù) （CTE），避免了 GaN 外延層的翹曲和裂紋，從而提高了良率。在此之前，信越化學(xué)已經(jīng)對外銷售了 150 毫米（6 英寸）和 200 毫米（8 英寸）QST 襯底以及 QST 外延襯底上的 GaN。
Qromis 許可的 QST（Qromis 襯底技術(shù)）襯底由具有與 GaN 相匹配的 CTE 的多晶氮化鋁陶瓷芯和涂覆芯的多層無機薄膜組成。封裝層頂部的二氧化硅 SiO2 鍵合層允許單個晶體硅層形成外延 GaN 生長的成核層。
GaN 器件制造商由于缺乏適合 GaN 生長的大直徑襯底，因此無法從增加材料直徑中受益，盡管他們可以使用現(xiàn)有的 GaN 硅生產(chǎn)線。300mm QST 襯底可實現(xiàn) GaN 外延生長，而不會出現(xiàn)翹曲或裂紋，這在硅片襯底上是無法實現(xiàn)的，從而顯著降低了器件成本。
這種襯底材料可實現(xiàn)高質(zhì)量和厚的 GaN 外延生長，并具有大直徑。信越化學(xué)表示，客戶正在評估用于功率器件、高頻器件和 LED 的 QST 襯底和 QST 外延襯底上的 GaN，并已進(jìn)入數(shù)據(jù)中心電源的開發(fā)階段。
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當(dāng)措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。