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商務部回應荷蘭宣布擴大光刻機管制

2024-09-09
來源:C114通信網

針對9月6日荷蘭宣布將擴大光刻機的管制范圍一事,商務部近日在發布會上對此進行了回應。

商務部發言人指出,近來,中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上,進一步擴大對光刻機的管制范圍,中方對此表示不滿。

近年來,美國為維護自身全球霸權,不斷泛化國家安全概念,脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施,嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定,嚴重損害相關國家和企業正當權益,中方對此堅決反對。

商務部發言人表示,荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發,尊重市場原則和契約精神,避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展,不濫用出口管制措施,切實維護中荷企業和雙方共同利益,維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。

此前報道:荷蘭政府宣布擴大對先進半導體制造設備的出口管制措施,即從 9 月 7 日起,更多類型的半導體制造設備將受到國家授權要求的限制。這一措施規定,從現在起,公司在出口此類先進制造設備時必須申請授權,政府將根據具體情況對申請進行評估,因此這并不是一項出口禁令,措施適用于從荷蘭出口到歐盟以外的目的地。對于這一措施,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥回應稱,根據更新的許可證要求,阿斯麥將需要向荷蘭政府而不是美國政府申請 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 浸沒式 DUV 光刻機的出口許可證。TWINSCAN NXT:2000i 及其后的浸沒式 DUV 系統已經有了荷蘭出口許可證要求。阿斯麥 EUV 系統的銷售也受許可證要求的限制。阿斯麥表示,由于這是一項技術性變更,預計不會對公司 2024 年的財務前景或長期方案產生任何影響。


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