8月27日消息，據臺媒報道，中國臺灣地區高等檢察署智能財產分署偵辦的臺積電2nm核心關鍵技術營業秘密遭非法竊取案已偵查結束，并于8月27日依照中國臺灣地區“安全法”核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪、“營業秘密法”意圖域外使用而竊取營業秘密罪、竊取營業秘密罪等罪嫌，起訴涉案3名工程師陳力銘、吳秉駿及戈一平，全案預計下周移審智慧財產及商業法院。
報道稱，高檢署智財分署查出，TEL是臺積電其他制程蝕刻機供應商，想切入2nm制程，因此以測試方式尋求蝕刻機站點供應資格，但測試最終失敗，而跳槽到TEL工作的前臺積電工程師陳力銘，找上過往同事、臺積電現任工程師吳秉駿及戈一平，通過遠端登入臺積電遠端數據庫系統方式，查看機密檔案并翻拍多張照片，借此改善蝕刻機臺表現等，其中有10多張照片涉核心機密，后因臺積電察覺有異，展開內部調查并于今年7月8日向高檢署提告。
檢方獲報后于7月25日至28日指揮調查局發動多波搜索及約談行動，審訊后將陳等3人聲押禁見獲準；據悉，3人均坦承犯行，并爭取希望依臺灣地區安全法減刑。
檢方認為，本案事涉地區產業命脈的國家核心關鍵技術，嚴重威脅半導體產業國際競爭力，3人犯罪情節重大，對陳力銘依涉營業秘密法“意圖域外使用而竊取營業秘密罪”申請執行有期徒刑5年、“竊取營業秘密”申請執行有期徒刑3年、地區安全法“臺灣地區核心關鍵技術營業秘密之域外使用”罪申請執行有期徒刑8年，數罪并罰申請執行有期徒刑14年。
吳秉駿涉“意圖域外使用而竊取營業秘密罪”申請執行有期徒刑4年、“臺灣地區核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪”申請執行有期徒刑7年，兩罪并罰申請執行有期徒刑9年。
戈一平涉犯“臺灣地區核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪”，申請執行有期徒刑7年。
檢方表示，已分案續查是否有法人及自然人涉有相關刑事責任。此外，本案另有3名被告涉營業秘密法告訴乃論刑責，因臺積電表明不提出告訴，檢方因此予以簽結。
