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搶攻中國手機芯片市場 電聯(lián)28nm授權(quán)大陸

2017-03-23
關(guān)鍵詞: 晶圓 集成電路 芯片 制程

晶圓代工廠聯(lián)電獲準授權(quán)28 納米技術(shù)予中國子公司聯(lián)芯集成電路制造(廈門),聯(lián)芯28 納米預計第二季導入量產(chǎn),將搶攻中國手機芯片市場。

聯(lián)芯甫于去年底投產(chǎn),目前以40 納米制程技術(shù)為主,月產(chǎn)能約1.1 萬片規(guī)模。

聯(lián)電今天公告,獲準技術(shù)授權(quán)28 納米技術(shù)予中國子公司聯(lián)芯,技術(shù)授權(quán)金額2 億美元。聯(lián)電表示,聯(lián)芯將盡快導入28 納米制程,預計第二季可進入量產(chǎn),將搶攻中國手機芯片市場;聯(lián)芯預計至今年底月產(chǎn)能將擴增至1.6 萬片規(guī)模。

至于2 億美元技術(shù)授權(quán)金,聯(lián)電指出,將依進度認列,只因與聯(lián)芯為母子公司關(guān)系,對損益無影響,僅有現(xiàn)金收入。

N-1規(guī)則,14nm量產(chǎn)后的推進

根據(jù)臺灣規(guī)定,投資大陸的技術(shù)要比臺灣的落后一代,也就是所謂的“N-1”規(guī)則,聯(lián)電這次進入大陸,是因為其14nm正式投入量產(chǎn)。

23日也宣布,自主研發(fā)的14nm鰭式場效晶體管(FinFET)制程技術(shù),已成功進入客戶芯片量產(chǎn)階段,良率已達先進制程的業(yè)界競爭水平,此制程將幫助客戶開拓嶄新的應用于電子產(chǎn)品。

聯(lián)電CEO顏博文表示,這次達成14nm量產(chǎn)的里程碑,象征聯(lián)電成功攜手客戶,將先進技術(shù)導入市場,同時與其他客戶的合作也在順利進行中,將持續(xù)優(yōu)化此制程,充分發(fā)揮14納米FinFET在效能、功耗和閘密度所具備的優(yōu)勢,以驅(qū)動次世代硅芯片于網(wǎng)絡(luò)、人工智能和各類消費產(chǎn)品等各領(lǐng)域的應用。

聯(lián)電14納米 FinFET制程效能競爭力已達業(yè)界領(lǐng)先標準,速度較28nm增快55%,閘密度則達兩倍,此外,功耗亦較28納米減少約50%。 此14nm客戶芯片現(xiàn)正于聯(lián)華電子臺南的Fab 12A晶圓廠生產(chǎn)中,未來將因應客戶需求,穩(wěn)步擴充其14nm產(chǎn)能。

聯(lián)電宣布自主研發(fā)的14納米鰭式場效晶體管(FinFET)制程技術(shù), 也宣告聯(lián)電已決定將廈門聯(lián)芯的晶圓制程推進到28nm量產(chǎn),搶食在大陸制造最大一塊的手機和網(wǎng)通芯片代工商機。

顏博文強調(diào),14納米FinFET制程效能競爭力已達業(yè)界標準,速度比28 nm增快55%,閘密度達兩倍,而且芯片功耗也較28nm減少約50%。

28nm進攻大陸,中芯國際受沖擊?

聯(lián)芯集成電路是聯(lián)電和廈門政府合作的12寸晶圓廠,計劃開始于2015年,而到2016年6月,該工廠已經(jīng)交付投產(chǎn),并在7月底投入試產(chǎn),良率也高達98%。在產(chǎn)能布建上,2016第4季月產(chǎn)能約達3千片,從2017年開始,逐季擴充產(chǎn)能,2018年第二季平均月產(chǎn)能就可達到2.5萬片規(guī)模。

業(yè)界人士認為,聯(lián)芯55/40納米米制程可用來生產(chǎn)嵌入式芯片、CMOS影像感測器、通訊芯片等,高通將成為聯(lián)芯主要客戶之一。

目前,聯(lián)電28納米制程采用嶄新的應力技術(shù)(SMT, t-CESL, c-CESL) 與嵌入式SiGe,以強化電子遷移率的表現(xiàn),專為需要高效能與低功耗之應用產(chǎn)品所開發(fā)。目前已采用28HLP SiON 與28HPM/HPC HK/MG 制程量產(chǎn)多家客戶產(chǎn)品。聯(lián)電現(xiàn)正積極擴增28納米產(chǎn)能,以滿足客戶對此廣受歡迎制程的高度需求。

28HLP – 采用強化的SiON技術(shù)

聯(lián)電高效能低功耗(HLP) 制程為40納米平順的制程移轉(zhuǎn)途徑,具備了便于設(shè)計采用,加速上市時程,以及優(yōu)異的效能/成本比。針對有高速要求的客戶應用產(chǎn)品,此制程提供了大幅提升的效能與功耗,速度可較業(yè)界其他晶圓專工廠提供的28nm SiON制程提升10%。

28HPM/HPC - 采用高介電系數(shù)/金屬閘極堆疊技術(shù)

聯(lián)電28HPM/HPC 技術(shù)廣泛支援各種元件選項,以提升彈性及符合效能需求,同時針對多樣的產(chǎn)品系列,例如應用產(chǎn)品處理器、手機基頻、WLAN、平板電腦、FPGA 及網(wǎng)通IC等。具備高介電系數(shù)/金屬閘極堆疊及豐富的元件電壓選項、記憶體位元組及降頻/超頻功能,有助于系統(tǒng)單芯片設(shè)計公司推出效能及電池壽命屢創(chuàng)新高的產(chǎn)品。

在聯(lián)芯進入28nm之后,因為聯(lián)電的良率明顯比中芯國際的穩(wěn)定,而這個制程更是中端手機芯片和高端網(wǎng)絡(luò)芯片的必備制程,他們進入大陸,勢必會給中芯國際造成沖擊。對于中芯來說,需要應對的問題又多了一個。


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