11月11日消息，據(jù)“中國光谷”微信公眾號介紹，日前，國內首條基于12寸40nm CMOS工藝線的全國產(chǎn)化硅光PDK（工藝設計套件）、TDK（測試設計套件）及ADK（封裝設計套件）流片服務平臺正式在光谷投用。

該平臺由國家信息光電子創(chuàng)新中心（NOEIC）建設運營，標志著光谷企業(yè)在硅光領域實現(xiàn)又一關鍵突破。

據(jù)介紹，傳統(tǒng)芯片靠電子傳輸數(shù)據(jù)，好比汽車運貨，硅光芯片則讓光子穿梭于光纖，變身“光速高鐵”。

該平臺創(chuàng)新構建硅光MPW服務模式，通過將多個芯片設計集成于同一晶圓流片，實現(xiàn)成本分攤，大幅降低研發(fā)門檻。

國家信息光電子創(chuàng)新中心硅光芯片

平臺基于40nm制程的硅光PDK1.0性能總體達到商用要求，其加工精度、波導損耗、光耦合效率等指標達國際先進水平。

據(jù)了解，除PDK外，平臺還集成了TDK和ADK，可提供芯片從集成設計到封裝驗證的全流程支撐，可滿足科研成果轉化和產(chǎn)品研制中的快速迭代需求。

國家信息光電子創(chuàng)新中心硅光芯片加工場景

近年隨著技術成熟及AI需求爆發(fā)，硅光芯片在人工智能、大數(shù)據(jù)等前沿產(chǎn)業(yè)領域迎來大規(guī)模應用。

咨詢機構LightCounting預計，到2030年硅光芯片在光通信芯片市場占比將增至60%。