《電子技術(shù)應(yīng)用》
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Mentor 強(qiáng)化支持臺(tái)積電5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝以及晶圓堆疊技術(shù)的工具組合

2018-05-04
關(guān)鍵詞: Mentor FinFET 堆疊技術(shù)

  Mentor, a Siemens business 宣布,該公司 Calibre? nmPlatform 和 Analog FastSPICE (AFS?) Platform 中的多項(xiàng)工具已通過(guò)TSMC最新版5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證。Mentor 同時(shí)宣布,已更新了 Calibre nmPlatform 工具,可支持TSMC的晶圓堆疊封裝 (WoW)技術(shù)。Mentor 的工具和 TSMC 的新工藝將協(xié)助雙方共同客戶更快地為高增長(zhǎng)市場(chǎng)提供芯片創(chuàng)新。

  TSMC 設(shè)計(jì)基礎(chǔ)架構(gòu)營(yíng)銷(xiāo)部資深總監(jiān) Suk Lee 表示:“Mentor 通過(guò)提供更多功能和解決方案來(lái)支持我們最先進(jìn)的工藝,持續(xù)為T(mén)SMC 生態(tài)系統(tǒng)帶來(lái)了更高的價(jià)值。通過(guò)為我們的新工藝提供不斷創(chuàng)新的先進(jìn)電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化 (EDA) 技術(shù),Mentor 再次證明了對(duì) TSMC 以及我們的共同客戶的承諾。”

  Mentor 增強(qiáng)工具功能,以支持 TSMC 5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝

  Mentor 與 TSMC 密切合作,針對(duì) TSMC 的 5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝,對(duì) Mentor 的 Calibre nmPlatform 中的各種工具進(jìn)行認(rèn)證,其中包括 Calibre nmDRC?、Calibre nmLVS?、Calibre PERC?、Calibre YieldEnhancer 和 Calibre xACT?。這些 Calibre 解決方案現(xiàn)已新增測(cè)量與檢查功能,包括但不限于支持與 TSMC 共同定義的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)要求。Mentor 的 Calibre nmPlatform 團(tuán)隊(duì)還與 TSMC 合作,通過(guò)增強(qiáng)多 CPU 運(yùn)行的可擴(kuò)展性,來(lái)改善物理驗(yàn)證運(yùn)行時(shí)的性能,進(jìn)而提高生產(chǎn)率。Mentor 的 AFS 平臺(tái),包括 AFS Mega 電路仿真器,現(xiàn)在也獲得TSMC 的 5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證。

  Mentor 增強(qiáng)工具功能,以支持 TSMC 的 WoW 晶圓堆疊技術(shù)

  Mentor 在其 Calibre nmPlatform 工具中新增了幾項(xiàng)增強(qiáng)功能,以支持 WoW 封裝技術(shù)。增強(qiáng)功能包括適用于帶背面硅通孔 (BTSV) 的裸片的 DRC 和 LVS Signoff、芯片到芯片的接口對(duì)齊與連通性檢查以及芯片到封裝堆疊的接口對(duì)齊與連通性檢查。其他增強(qiáng)功能還包括背面布線層、硅通孔 (TSV) 中介層以及接口耦合的寄生參數(shù)提取。

  Calibre Pattern Matching,可支持 TSMC 7nm SRAM 陣列檢查實(shí)用工具

  Mentor 與 TSMC 密切合作,將 Calibre Pattern Matching 與 TSMC 的 7nm SRAM 陣列檢查實(shí)用工具進(jìn)行整合。該流程有助于客戶確保其構(gòu)建的 SRAM 實(shí)現(xiàn)可滿足工藝需要。借助這種自動(dòng)化,客戶即能成功流片。SRAM 陣列檢查實(shí)用工具可供 TSMC 7nm工藝的客戶使用。

  Mentor, a Siemens business 副總裁兼Design to Silicon 部門(mén)總經(jīng)理 Joe Sawicki 表示:“TSMC 持續(xù)不斷地開(kāi)發(fā)創(chuàng)新晶圓工藝,使我們的共同客戶能夠向市場(chǎng)推出許多世界上最先進(jìn)的 IC,我們不僅為 Mentor 的平臺(tái)能率先獲得 TSMC 最新工藝的認(rèn)證感到自豪,也為我們能與 TSMC 緊密合作,攜手開(kāi)發(fā)新技術(shù)以協(xié)助客戶加速硅片生產(chǎn)的目標(biāo)感到自豪。”

  如需了解更多信息,請(qǐng)于 2018 年 5 月 1 日蒞臨 TSMC 技術(shù)研討會(huì)的 Mentor 展位(展位號(hào) 408),地址:加利福尼亞州圣克拉拉市圣克拉拉會(huì)議中心。

  記者的聯(lián)系方式

  Jack Taylor

  電話:(512) 560-7143;電子郵件:jack_taylor@mentor.com

  Siemens 業(yè)務(wù)部門(mén) Mentor 是電子硬件和軟件設(shè)計(jì)解決方案的世界領(lǐng)導(dǎo)者,為世界上大多數(shù)成功的電子、半導(dǎo)體和系統(tǒng)公司提供產(chǎn)品、咨詢(xún)服務(wù)和屢獲殊榮的技術(shù)支持。公司總部位于 8005 S.W.Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777。網(wǎng)站:http://www.mentor.com。

  (Mentor Graphics, Mentor, Calibre 和 Xpedition 是注冊(cè)商標(biāo),AFS, nmDRC, nmLVS 和 PERC, xACT 是 Mentor Graphics 公司的注冊(cè)商標(biāo)。所有其他公司或產(chǎn)品名稱(chēng)是其各自所有者的注冊(cè)商標(biāo)或商標(biāo)。)


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