TechInsights在拆解美光DIMM (DDR4)和華為(Huawei) Mate 10 (LPDDR4)中發(fā)現(xiàn)了美光1x nm制程身影。 這一制程帶來(lái)了較其前代產(chǎn)品更小的裸晶尺寸以及更大的位元密度，以及一點(diǎn)點(diǎn)的驚喜......

繼去年三星電子(Samsung Electronics)開(kāi)始量產(chǎn)1x奈米(nm；可能是18nm) DRAM產(chǎn)品(如DDR4、LPDDR4和LPDDR4X)后，美光科技(Micron Technology)跟著推出了采用1x nm制程節(jié)點(diǎn)的DDR4和LPDDR4元件。拆解分析機(jī)構(gòu)TechInsights最近拆解這些元件并進(jìn)行了詳細(xì)的分析。

美光科技的1x nm DRAM單元架構(gòu)采用6F2單元設(shè)計(jì)。它利用帶有島型交錯(cuò)主動(dòng)層圖案的鞍型塊狀鰭片(即所謂的FinET)、具有凹槽通道的埋入式金屬字線(xiàn)、直線(xiàn)型位元線(xiàn)以及蜂巢狀圓柱形單元電容等。

美光1x nm DDR4 DRAM裸晶尺寸為58.48mm2，LPDDR4為52.77 mm2（來(lái)源：TechInsights）

相較于以2y nm (可能為20 nm)制程制造的芯片，其主動(dòng)層和位元線(xiàn)圖案的形狀不同。DDR4元件上的焊墊置于芯片中央成為一排。

美光1x nm DDR4 DRAM裸晶的尺寸較相同8Gb存儲(chǔ)器密度的2y nm裸晶縮小了大約18.3%。 1x nm LPDDR4裸晶則較2y nm裸晶縮小17.14%。

因此，DDR4裸晶的位元密度為0.137Gb/mm2，增加了11.4%。1x nm LPDDR4裸晶的位元密度為0.152Gb/mm2，較先前的2y nm元件更高約60%，如下圖所示。

美光2x、2y和1x奈米DRAM裸晶的尺寸和位元密度趨勢(shì)

相形之下，三星的1x nm DRAM (包括DDR4和LPDDR4X)位元密度為0.189Gb/mm2。這意味著美光的1x nm LPDDR4裸晶由于單元尺寸較大，使其位元密度比三星的更低約20%。

在美光的3x、2x和2y DRAM單元設(shè)計(jì)中，字符線(xiàn)間距是三項(xiàng)關(guān)鍵尺寸(主動(dòng)層、字符線(xiàn)和位元線(xiàn)間距)中最小的。然而，在其1x nm DRAM上，美光科技采用間距最小的主動(dòng)圖案，這與三星和海力士(SK Hynix)的DRAM作法相同。

相較于2y nm DRAM單元設(shè)計(jì)，美光1x nm單元的主動(dòng)層和位元線(xiàn)間距分別減少了40%和13%，而字符線(xiàn)間距則增加了20%，如下所示。美光的1x主動(dòng)間距與三星的非常類(lèi)似，但其1x字符線(xiàn)和位元線(xiàn)間距則較三星的大。

美光3x、2x、2y和1x 奈米DRAM的單元間距趨勢(shì)

因此，由于間距改變的結(jié)果，美光的6F2單元尺寸并未較其2y nm單元縮小。此外，美光1x nm DRAM單元尺寸也比三星1x nm DRAM單元尺寸更大29%。