4月16日，三星官網(wǎng)發(fā)布消息稱，三星電子已經(jīng)成功完成5nm EUV開發(fā)，以實(shí)現(xiàn)芯片的更大面積擴(kuò)展和帶來超低功耗。

　　三星電子稱，其5納米（nm）FinFET工藝技術(shù)的開發(fā)已經(jīng)完成，現(xiàn)在可以為客戶提供樣品。通過在其基于極紫外（EUV）的工藝產(chǎn)品中添加另一個尖端節(jié)點(diǎn)，三星稱再次證明了其在先進(jìn)晶圓代工市場的領(lǐng)導(dǎo)地位。

　　與7nm相比，三星的5nm FinFET工藝技術(shù)將邏輯區(qū)域效率提高了25%，功耗降低了20%，性能提高了10%，從而能夠擁有更多創(chuàng)新的標(biāo)準(zhǔn)單元架構(gòu)。

　　三星稱，5nm的另一個主要優(yōu)點(diǎn)是可以將所有7nm知識產(chǎn)權(quán)（IP）重用到5nm。因此，7nm客戶過渡到5nm將極大地受益于降低的遷移成本，預(yù)先驗(yàn)證的設(shè)計生態(tài)系統(tǒng)，從而縮短他們的5nm產(chǎn)品開發(fā)時間。

　　“成功完成5nm開發(fā)，我們已經(jīng)證明了我們在基于EUV的節(jié)點(diǎn)中的能力，”三星電子鑄造業(yè)務(wù)執(zhí)行副總裁Charlie Bae說。“為響應(yīng)客戶對先進(jìn)工藝技術(shù)不斷增長的需求，以區(qū)分其下一代產(chǎn)品，我們繼續(xù)致力于加速基于EUV技術(shù)的批量生產(chǎn)。”

　　2018年10月，三星宣布準(zhǔn)備并初步生產(chǎn)7nm工藝，這是其首個采用EUV光刻技術(shù)的工藝節(jié)點(diǎn)。該公司已提供業(yè)界首批基于EUV的新產(chǎn)品的商業(yè)樣品，并于今年初開始量產(chǎn)7nm工藝。

　　此外，三星還在推動其6nm的工藝導(dǎo)入客戶端，這是一個定制的基于EUV的工藝節(jié)點(diǎn)，并且客戶已經(jīng)收到了其首款6nm芯片的流片產(chǎn)品。

　　三星代工廠基于EUV的工藝技術(shù)目前正在韓國華城的S3生產(chǎn)線上生產(chǎn)。此外，三星將把其EUV產(chǎn)能擴(kuò)大到華城的新EUV生產(chǎn)線，該生產(chǎn)線預(yù)計將在2019年下半年完成，并從明年開始增產(chǎn)。