光刻機是目前世界上最復雜的精密設備之一，芯片制造的核心設備之一，除了可以用來生產(chǎn)芯片，還有用于封裝的光刻機、LED制造領域的投影光刻機。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司——荷蘭ASML公司。去年共銷售26臺EUV光刻機，用于臺積電、三星的7nm和5nm工藝制造。
最近有報道指出，ASML正在研發(fā)新一代EUV光刻機EXE:5000系列，最快會于2021年面世。
據(jù)了解，現(xiàn)在ASML銷售的光刻機主要為NXE:3400B和改進型的NXE:3400C，結(jié)構(gòu)上相似。差別在于NXE:3400C采用模塊化設計，將平均維護時間從48小時縮短到8-10小時；NXE:3400C的產(chǎn)量也從125WPH提升到了175WPH。這兩款EUV光刻機屬于第一代，物鏡系統(tǒng)的NA（數(shù)值孔徑）為0.33。
在光刻機的分辨率公式中，NA數(shù)字越大，代表光刻機精度更高。ASML現(xiàn)在在研發(fā)新一代EUV光刻機EXE:5000系列，NA為0.55。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利時微電子中心。
據(jù)悉，EXE:5000系列EUV光刻機主要面向3nm時代，目前臺積電和三星的制程工藝路線圖已經(jīng)到了3nm，要想讓技術(shù)盡快落地到實際，EXE:5000系列EUV光刻機的研發(fā)極為重要。
據(jù)ASML的爆料，EXE:5000系列EUV光刻機樣機最快會于2021年面世，最快可能會于2023年或者2024年上市。
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。