ASML是全球唯一一家量產EUV光刻機的,臺積電、三星、Intel的7nm、5nm及未來的3nm、2nm都要依賴EUV光刻機,單臺售價超過1億美元,成本極高。

ASML的EUV光刻機目前使用的還是第一代,EUV光源波長在13．5nm左右,物鏡的NA數值孔徑是0．33,發(fā)展了一系列型號。

其中最早量產出廠的是NXE:3400B,產能有限,一小時生產晶圓是125PWH,目前的出貨主力是NXE:3400C,產能提升到135WPH,今年底還有NXE:3600D系列出貨,產能再進一步提升到160WPH,不過價格也會提升到1．45億美元了。

現在第一代的EUV光刻機NA指標太低,第二代EUV光刻機會是N XE:5000系列,其物鏡的NA將提升到0．55,進一步提高光刻精度,半導體工藝突破1nm工藝就要靠下一代光刻機了。

然而NA 0．55的二代EUV光刻機沒那么容易,原本預計最快2023年問世,最新傳聞稱NXE:5000系列跳票,而且一下子就跳票三年,要到2025-2026年才有可能問世了。

不僅時間延期,二代EUV光刻機的價格也會大漲,預計輕松達到3億美元,是現有EUV光刻機的2-3倍,這就意味著未來的芯片工藝成本極其昂貴,哪怕真能做到1nm工藝,那高昂的成本也會讓大多數公司退而卻步。

按照這樣的發(fā)展下去,估計1nm工藝的大客戶就剩下蘋果自己了。