被美國(guó)給打醒！俄羅斯想造光刻機(jī)，全新的技術(shù)，對(duì)標(biāo)了ASML的EUV

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誰都知道，俄羅斯已經(jīng)被美國(guó)全面打壓了。

俄羅斯的晶片需求量并不大，每年的進(jìn)口量，也就是一億美元左右，大部分的晶圓廠，都不會(huì)和美國(guó)競(jìng)爭(zhēng)。

但俄羅斯的一億美金，在俄羅斯來說，就是一個(gè)天文數(shù)字。

俄羅斯將會(huì)做什么？前段時(shí)間，有消息說俄羅斯準(zhǔn)備重新做一臺(tái)光刻機(jī)。

他的目標(biāo)很明確，就是要用ASML的最新光刻機(jī)，去挑戰(zhàn)目前最尖端的EUV（UV）。

當(dāng)然，ASML也不可能戰(zhàn)勝ASML，因?yàn)锳SML的EUV光刻機(jī)，都是全世界的人幫忙做的，俄羅斯這邊，根本就沒有人去做。

俄羅斯的計(jì)劃，就是研發(fā)一種新的技術(shù)，叫做“X射線光刻機(jī)”。

EUV光刻機(jī)，原本是將芯片的圖紙，做成掩模，然后用13.9nm的紫外線，對(duì)掩模進(jìn)行照射，然后在芯片上刻下電路，EUV光刻機(jī)就是這么做的。

而“無掩膜X光刻蝕機(jī)”則是另一種方式，它無需做任何掩模，只需用0.01nm至10nm的X射線，就能將芯片的電路直接繪制出來。

技術(shù)可靠嗎？這可不是一件容易的事情，技術(shù)已經(jīng)有了，但效率很低，在很久以前，還沒有在芯片上使用過。

畢竟要在一塊硅片上雕刻電路，光是想想都讓人頭疼，技術(shù)上的落后還好說，但光是5nm，就是幾十億的晶體管，就很難了。到現(xiàn)在為止，還沒有任何一家公司，將自己的技術(shù)，投入到光刻的研究中。

俄羅斯的目標(biāo)是，十一月研發(fā)出一套新的技術(shù)與模式，并對(duì)樣機(jī)的技術(shù)規(guī)格與可行性進(jìn)行分析，其中的制程要求是28nm或更高。

俄羅斯第一批投入了六億七千萬盧布，由俄羅斯的莫斯科電子技術(shù)研究所（MIET）接手，這是蘇聯(lián)的硅谷中心，也是以微電子為主的。

雖然不知道最終會(huì)不會(huì)成功，但一旦成功，將會(huì)改變整個(gè)世界的芯片行業(yè)。

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