ASML對外展示了最新EUV光刻機內(nèi)部畫面，或許在他們看來，就算把這些全部展現(xiàn)給大家看，也沒辦法來偷師他們的技術(shù)。
該系統(tǒng)已獲得英特爾公司的訂單，首臺機器已于去年年底運抵其位于俄勒岡州的D1X工廠，英特爾計劃在 2025 年年底開始使用該系統(tǒng)進(jìn)行生產(chǎn)。
High-NA EUV光刻機能夠在半導(dǎo)體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代產(chǎn)品的1/1.7。更細(xì)的線條意味著芯片可以容納更多的晶體管，從而實現(xiàn)更快的處理速度和更高的存儲容量，這對于人工智能工作負(fù)載至關(guān)重要。
該公司上季度收到了創(chuàng)紀(jì)錄的頂級EUV光刻機訂單，顯示了包括英特爾、三星電子和臺積電在內(nèi)的大客戶對該技術(shù)的樂觀預(yù)期，由于種種因素限制，中國廠商是沒辦法被允許購買這些設(shè)備的。
有網(wǎng)友甚至感慨，即便這些內(nèi)部結(jié)構(gòu)展示給國產(chǎn)廠商，可能真正阻礙下也沒辦法去逆向推演復(fù)刻。
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當(dāng)措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。