3 月 13 日消息，光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝，新機型將帶來更高的生產效率。
ASML 官網尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。
除了正在研發的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列，ASML 也為其 NXE 系列傳統數值孔徑 EUV 光刻機持續更新升級，未來目標在 2025 年推出 NXE:4000F 機型。
上兩代 NXE 系列機型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節點生產，德媒 ComputerBase 因此預測 3800E 有望支持 3~2 納米的尖端制程。
根據 ASML 此前分享的 2021 版路線圖，Twinscan NXE:3800E 系統將相較上代 3600D 在對準精度（Overlay）和產能上進一步提升，可實現 195 片晶圓的每小時吞吐量，相較 3600D 的 160 片大幅提升近 22%，并有望達到 220 片的目標（對應提升 37.5%）。
本站內容除特別聲明的原創文章之外，轉載內容只為傳遞更多信息，并不代表本網站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創文章及圖片等內容無法一一聯系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。