6 月 18 日消息，日本三井化學擁有荷蘭阿斯麥（ASML Holding NV）授權的 EUV 光罩生產業務，并于 2021 年開始在其巖國大竹工廠商業化生產 EUV 光罩，從而成為該行業的全球領導者。
三井化學宣布將在其巖國大竹工廠設立碳納米管 (CNT) 薄膜生產線，開始量產半導體最尖端光刻機的零部件產品（保護半導體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產品）。
三井化學預期年產能力為 5000 張，生產線預計于 2025 年 12 月完工，可用于荷蘭 ASML 將推出的下一代高數值孔徑、高輸出 EUV 光刻機提供支持。
光掩模防塵薄膜（pellicle）用于保護光掩模的清潔，需要高透光率以及長壽命。三井化學 2023 年與比利時微電子研究中心（imec）合作，將共同推進 EUV 碳納米管光掩模薄膜（pellicle）技術商業化。
那么問題來了，什么是 CNT 薄膜呢？要介紹新材料IT之家這里還需要帶大家先了解一下新 EUV 光刻機的能力和需求。
簡單來說，下一代 EUV 光刻技術對高數值孔徑（NA 值 0.55）、高輸出功率 (600W 及更高) 工藝的需求尤其顯著，而由新材料制成的薄膜對于承受“能實現此技術所需的苛刻光刻環境”至關重要。
▲ EUV 防護薄膜
為此，三井化學開發出了新款 CNT 薄膜并決定進行量產。據介紹，采用碳納米管（CNT）材料制造的薄膜，與以往產品相比大幅提高了強度和光的透射率，具有極高的 EUV 透光率（≥94%）。此外，碳納米管顆粒還能夠承受超過 1kW 的 EUV 功率，從而滿足未來新一代光刻機的需求。
▲ 碳納米管薄膜
三井化學希望通過在其產品線中添加使用 CNT 作為膜材料的新一代防護薄膜產品，以及使用硅基膜制成的傳統 EUV 防護薄膜，從而有幫助 ASML 提高半導體性能和生產率。
