如果將芯片制造比作雕刻，那光刻機就是將雕刻線稿（電路圖）描繪在材料（晶圓表面）上的畫筆。它決定著芯片的工藝水平和性能，是制造半導體芯片的關鍵裝備。
近日，項目總投資約50億元的上海圖雙精密裝備項目落戶紹興市越城區，成為紹“芯”版圖上的又一塊新拼圖。項目計劃分兩期實施。一期計劃投資約5億元，一期占地面積35畝，用于轉移及擴大公司目前在上海的產能；二期計劃投資約45億元。兩期將實現年產50-100臺半導體設備的目標。項目正在建設中，預計2025年投產。
這家上海高新技術企業為何會將生產基地放在越城？上海圖雙董事長鐘敏道出了背后的原因。去年下半年，基于連年的業績增長，公司計劃在長三角地區籌建大型生產基地。經過幾次拜訪和對接，鐘敏被越城的滿滿誠意打動。“招商政策好，產業集聚性強，項目也有專人全流程服務，企業發展前景廣闊。”談及越城的營商環境，鐘敏給予了很高評價。
經過多年的深耕細作，越城已集聚起近百家集成電路及相關規上企業，初步形成以特色工藝、先進封裝為核心的全產業鏈條，產值規模超500億元，穩居浙江省集成電路行業第一梯隊。眾多龍頭企業齊聚，用精湛的技藝和無盡的創造力，將硅片轉化為驅動未來的強大引擎。
光刻設備是發展集成電路產業的核心設備，卻一直處于“卡脖子”狀態。光刻機最先進的技術被荷蘭的ASML、日本的尼康、佳能三大國際大廠壟斷。尤其是最為先進的EUV光刻機，全世界僅有ASML一家能夠提供。目前，在光刻機領域，國內眾多集成電路生產企業仍需通過進口來滿足產業發展的需求。
此次成功引入的上海圖雙精密裝備項目，不僅能根據市場需求研發生產國產光刻機，也能對國外光刻機進行定制化改造、調試。“光刻機比較精密，設備的裝調是相當重要的環節。”鐘敏解釋道，超高的精密度要求是造成光刻機技術難以在短時間內取得突破的主要原因之一。以EUV光刻機為例，其零件數量超過45萬個，是一輛F1賽車的20倍以上。因而，光刻機從出廠，經船運或空運到達項目安裝地后，還需要幾個月的時間進行裝調。
目前，上海圖雙的技術能力和資源已覆蓋ASML、尼康、佳能三家公司的6寸、8寸、12寸光刻機，能按照不同的芯片產品特性及工藝進行設備再制造、技術匹配、工藝調試等定制化服務，從而更好地滿足本地集成電路產業的“芯”質生產，在持續提升芯片價值的同時降低制造成本，與“芯”友共同推動集成電路產業的崛起。
作為半導體產業“皇冠上的明珠”，光刻機的動態進展格外受到關注。對于朝著浙江集成電路“第一區”目標沖刺的越城而言，完善半導體設備產業也是答好時代“芯”命題的必然要求。隨著更多集成電路產業鏈核心項目的落地生根，越城的“芯”夢想愈發清晰。
