11 月 15 日消息，《日本經(jīng)濟新聞》當?shù)貢r間今日凌晨報道稱，日本先進半導體代工企業(yè) Rapidus 購入的第一臺 ASML EUV 光刻機將于 2024 年 12 月中旬抵達北海道新千歲機場，這也將成為日本全國首臺 EUV 光刻設備。
根據(jù) Rapidus 高管以往表態(tài)，該光刻機是較早期的 0.33 NA 型號，而非目前全球總量不足 10 臺的 0.55 NA（High NA）款。
據(jù)悉本次整個空運任務將分多架次完成，新千歲機場還為這臺對精度要求極高、不耐振動的“龐然大物”對機場顛簸不平的路面進行了重新鋪設；此外 ASML 已在千歲市建設了客戶服務中心，將支持該系統(tǒng)的接收。
▲ ASML 的 0.33 NA EUV 光刻機 NXE:3800E
按 Rapidus 此前的規(guī)劃，該公司定于 2025 年 4 月啟動先進制程原型線，該產(chǎn)線將擁有包括 EUV 光刻機在內(nèi)的共計 200 余臺設備。根據(jù)千歲市當?shù)卣恼f法，Rapidus 的 IIM-1 晶圓廠截至上月底已完成 63% 的施工進度。
▲ IIM-1 晶圓廠概念圖
除 Rapidus 外，日本未來還有至少兩家晶圓廠將先后導入先進的 EUV 光刻機：
美光 1-gamma（IT之家注：即 1c nm）制程 DRAM 內(nèi)存需使用 EUV，美光廣島工廠預計于 2025 年內(nèi)導入 EUV 光刻設備為 2026 年的量產(chǎn)做準備；臺積電控股子公司 JASM 預定 2027 年投產(chǎn)的第二晶圓廠包含 6nm 產(chǎn)線，也需要 EUV 機臺。
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