9月25日消息，據報道，Intel正在加碼采購ASML的High-NA EUV光刻機，計劃購買兩臺相關設備，這一數量較之前計劃的單臺設備翻了一番。
ASML的High-NA EUV光刻機不僅價格高昂，更能夠實現更高的分辨率和更精細的芯片制造關鍵，是未來高端芯片制造的關鍵。
目前，全球僅有少數幾家公司能夠獲得ASML的High-NA EUV設備，包括臺積電、三星、SK海力士和Intel。
Intel的14A工藝計劃引入高數值孔徑（High-NA）光刻技術，這將是Intel代工服務（IFS）部門的重大里程碑。
14A工藝的成功與否對Intel的未來發展至關重要，因為如果該工藝無法獲得客戶的廣泛采用，Intel可能會放棄對高端芯片制造節點的追求。因此，14A工藝可以說是Intel在高端芯片制造領域的“背水一戰”。
據估算，ASML的單臺High-NA EUV光刻機價格約為3.7億美元，意味著Intel僅在光刻設備上就可能花費10億至20億美元。
本站內容除特別聲明的原創文章之外，轉載內容只為傳遞更多信息，并不代表本網站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創文章及圖片等內容無法一一聯系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。