| 等離子鍍膜用射頻電源功率計算與控制系統研究 | |
| 所屬分類：技術論文 | |
| 上傳者：wwei | |
| 文檔大?。?span>4174 K | |
| 標簽： 磁控濺射鍍膜 射頻電源 功率計算 | |
| 所需積分：0分積分不夠怎么辦？ | |
| 文檔介紹：當前的等離子磁控濺射鍍膜領域廣泛使用的射頻電源存在功率控制精度不足，功率可調范圍有限，以及因功率計算不準確導致輸出功率波動較大和誤差顯著等問題。為此，基于數字下變頻技術生成射頻信號源，提出了一種等離子體鍍膜用射頻電源功率計算與控制系統，通過VI Sensor上耦合的傳輸線上的信息直接計算出射頻電源的輸出功率，并利用控制器調節信號源幅值，從而實現對輸出功率的精確調節。仿真驗證該方法能夠實現快速、準確的功率計算及高精度的功率調節。通過實際樣機測試，該方案被證實能夠顯著降低輸出功率誤差，并提高鍍膜樣品上的成膜質量，為等離子磁控濺射鍍膜技術的發展注入了新的活力。 | |
| 現在下載 | |
| VIP會員，AET專家下載不扣分；重復下載不扣分，本人上傳資源不扣分。 | |
Copyright ? 2005-2024 華北計算機系統工程研究所版權所有 京ICP備10017138號-2