ASML正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)EXE：5000系列，最快會于2021年面世。

據(jù)IT之家了解，現(xiàn)在ASML銷售的光刻機(jī)主要為NXE：3400B和改進(jìn)型的NXE：3400C，結(jié)構(gòu)上相似。差別在于NXE：3400C采用模塊化設(shè)計(jì)，將平均維護(hù)時間從48小時縮短到8－10小時；NXE：3400C的產(chǎn)量也從125WPH提升到了175WPH。這兩款EUV光刻機(jī)屬于第一代，物鏡系統(tǒng)的NA（數(shù)值孔徑）為0．33。

在光刻機(jī)的分辨率公式中，NA數(shù)字越大，代表光刻機(jī)精度更高。ASML現(xiàn)在在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)EXE：5000系列，NA為0．55。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利時微電子中心。

據(jù)悉，EXE：5000系列EUV光刻機(jī)主要面向3nm時代，目前臺積電和三星的制程工藝路線圖已經(jīng)到了3nm，要想讓技術(shù)盡快落地到實(shí)際，EXE：5000系列EUV光刻機(jī)的研發(fā)極為重要。

據(jù)ASML的爆料，EXE：5000系列EUV光刻機(jī)樣機(jī)最快會于2021年面世，最快可能會于2023年或者2024年上市。

光刻機(jī)是目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，芯片制造的核心設(shè)備之一，除了可以用來生產(chǎn)芯片，還有用于封裝的光刻機(jī)、LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司——荷蘭ASML公司。去年共銷售26臺EUV光刻機(jī)，用于臺積電、三星的7nm和5nm工藝制造。

《兵進(jìn)光刻機(jī)，中國芯片血勇突圍戰(zhàn)》

作者：遠(yuǎn)洋