12月17日，南大光電公告，公司控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品近日成功通過客戶的使用認(rèn)證。

“ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國家“02專項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。該項(xiàng)目總投資6億元，完全達(dá)產(chǎn)后，預(yù)計(jì)實(shí)現(xiàn)約10億元的年銷售額，年利稅預(yù)計(jì)約2億元。

按不同制程，半導(dǎo)體用光刻膠可分為EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠及G線、i線光刻膠，前三者均為高端光刻膠產(chǎn)品。本次產(chǎn)品的認(rèn)證通過，標(biāo)志著“ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國內(nèi)通過產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國產(chǎn)ArF光刻膠。

ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝，廣泛應(yīng)用于高端芯片制造。

全球半導(dǎo)體光刻膠市場集中度高，市場被美日公司長期壟斷,日本的JSR、東京應(yīng)化、信越化學(xué)及富士電子四家企業(yè)占據(jù)了全球70%以上的市場份額。受益于本土半導(dǎo)體產(chǎn)能持續(xù)擴(kuò)大和集成電路大基金的支持，國產(chǎn)光刻膠正在迎來前所未有的發(fā)展機(jī)遇。