隨著半導(dǎo)體制程工藝進入7nm及以下節(jié)點，EUV光刻機成為最為關(guān)鍵的設(shè)備。之前臺積電、三星都依賴于ASML的EUV光刻機量產(chǎn)了5nm的芯片，不過目前EUV光刻機主要都還是應(yīng)用在邏輯芯片的制造上。而現(xiàn)在，存儲芯片廠商也開始引入EUV光刻機，推動存儲芯片的制程工藝。

　　近日，SK海力士與ASML公司簽訂了一個超級大單，豪擲4.8萬億韓元（約35.7億歐元）搶購EUV光刻機。SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱，這筆交易是為了實現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標(biāo)。

　　雖然，ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購買了多少臺EUV光刻機，不過從之前一臺EUV光刻機均價1億歐元的數(shù)據(jù)來看，SK海力士這次購買的EUV光刻機大約是35臺左右。要知道去年全年ASML的EUV光刻機的銷量也不過31臺。

　　據(jù)了解，作為全球第二大內(nèi)存芯片廠商的SK海力士，這次購買的EUV光刻機主要是用于新一代內(nèi)存顆粒。對內(nèi)存來說，它跟CPU邏輯工藝一樣面臨著需要微縮的問題，EUV光刻機可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時間、降低成本，并提高性能。值得一提的是，此前就有消息稱SK海力士今年下半年在利川廠區(qū)M16采用EUV光刻機生產(chǎn)第四代（1a nm）DRAM產(chǎn)品。