文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼： A
DOI：10.16157/j.issn.0258-7998.222562
中文引用格式： 黃翔宇，馬協(xié)力，金焱驊. 高集成度多標(biāo)記光刻版版圖的快速處理技術(shù)[J].電子技術(shù)應(yīng)用，2022，48(9)：67-69，74.
英文引用格式： Huang Xiangyu，Ma Xieli，Jin Yanhua. Rapidly processed technology of highly integrated and multi-label photolithography[J]. Application of Electronic Technique，2022，48(9)：67-69，74.
0 引言
光刻技術(shù)最早應(yīng)用于半導(dǎo)體分立器件和集成電路中的微細(xì)加工。光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)；在發(fā)光二極管、平板顯示、先進(jìn)封裝、磁頭及精密傳感器等泛半導(dǎo)體行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用。隨著各行業(yè)技術(shù)的不斷提升，作為微電子技術(shù)工藝基礎(chǔ)的微光刻技術(shù)[1-3]在半導(dǎo)體器件和集成電路研制開(kāi)發(fā)中的特征尺寸越來(lái)越小，加工尺寸逐步進(jìn)入深亞微米、百納米以至納米級(jí)。微電子技術(shù)的核心是集成電路的制造技術(shù)，而集成電路的制造技術(shù)的第一步就是集成電路的電路設(shè)計(jì)技術(shù)。因此微光刻技術(shù)發(fā)展同樣也離不開(kāi)電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化技術(shù)[4-7]的進(jìn)步。Tanner Research Inc公司開(kāi)發(fā)的L-edit軟件[8-10]提供了用戶編程接口UPI供用戶擴(kuò)展其功能，同時(shí)提供了大量的UPI函數(shù)擴(kuò)展命令集，極大地增加了L-Edit軟件的版圖處理能力和靈活性。UPI的核心是宏界面，宏可以是用C++文件，或編譯過(guò)的動(dòng)態(tài)鏈接庫(kù)。這樣可以方便地和集成電路掩模版版圖編輯工具軟件L-edit連接，彌補(bǔ)現(xiàn)有的掩模版版圖處理體系[11-14]中人工繪制版圖這個(gè)薄弱環(huán)節(jié)，極大地提高了目前集成電路版圖設(shè)計(jì)工具軟件[15]繪圖效率與準(zhǔn)確度，使其更能適用于微電子、微光學(xué)、發(fā)光二極管等微光刻領(lǐng)域的高集成度復(fù)雜圖形設(shè)計(jì)。本文采用C++對(duì)L-edit軟件進(jìn)行二次開(kāi)發(fā)，實(shí)現(xiàn)微光刻領(lǐng)域的高集成度復(fù)雜版圖的快速處理功能。
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作者信息：
黃翔宇，馬協(xié)力，金焱驊
(中電國(guó)基南方集團(tuán)有限公司，江蘇 南京211153)
