9月17日消息，據報道，中芯國際正在測試由上海初創公司宇量昇生產的深紫外線（DUV）光刻機，正測試的光刻機采用浸沒式技術，類似于ASML所采用的技術。
過去，中芯國際高度依賴從荷蘭半導體設備大廠ASML進口的DUV，但是近年來由于美國的出口管制，只能獲得較舊設備。
知情人士透露，中芯國際正在測試一臺28納米的DUV設備，并利用多重曝光來生產7納米芯片。
據透露，中芯國際試用的這類設備也能被推向極限以生產5納米處理器，但良率會偏低，無法再進一步制造更先進的產品。
報道稱，如果能夠量產先進的DUV光刻機，這將是中國大陸突破美國芯片出口管制的重大勝利，不僅能減少對西方技術的依賴，還能提升先進AI處理器的產能。
還有分析師表示：“如果測試成功，這將是中國企業的重要一步，未來可在此基礎上推進更先進的設備。”
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