《電子技術(shù)應(yīng)用》
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臺積電7nm明年就量產(chǎn) 后年使用EUV

2017-05-29

過去以及未來幾年,臺積電三星都在新工藝上開足了馬力,幾乎一年一個樣,比如三星就要連續(xù)推出8/7/6/5/4nm工藝。

臺積電也不甘示弱,聯(lián)合CEO魏哲家(CC Wei)今天就公開表示,臺積電將在2018年量產(chǎn)7nm,而且一年后再投產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)加持的新版7nm。

EUV技術(shù)是半導(dǎo)體領(lǐng)域多年來一直夢寐以求的里程碑式技術(shù),如果達(dá)成可以大大向前推進(jìn)摩爾定律,并大幅度提高產(chǎn)能,但該技術(shù)過于復(fù)雜,一再推遲,就連Intel也始終搞不定。

三星計劃在7nm工藝上首次使用EUV,時間點(diǎn)不詳,估計最快也得2019年,理論上和臺積電差不多。

魏哲家表示,臺積電的制造工藝主要面向移動、高性能計算、汽車、IoT物聯(lián)網(wǎng)四大領(lǐng)域,其中現(xiàn)在的10nm主要針對移動設(shè)備。

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7nm工藝則可以同時適用于移動設(shè)備、高性能計算和汽車領(lǐng)域,目前已有12款移動芯片完成流片,適合汽車設(shè)備的版本會在明年達(dá)到AEC-Q100 (Grade 0)標(biāo)準(zhǔn),面向高性能計算的版本也即將定型。——據(jù)說,AMD、NVIDIA都會使用臺積電7nm。

繼續(xù)往前,臺積電的5nm則主打移動設(shè)備和高性能計算,以及2019年試產(chǎn)。


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